Sistema de depósito químico de vapor mejorado por plasma (pecvd)

1. capacidad de depósito flexible

·Procesos de depósito basados en silicio - óxido, nitruro, oxinitruro, silicio amorfo..a-Si), yCarburo de silicioSiC(...)

·Investigación y desarrollo

·Creación de prototipos

·Producción en pequeños lotes -Fotónica, iluminación de estado sólido,MEMSY nanotecnología

·Área de aplicación: capa aislante intercapa, capa pasiva, capa de encapsulamiento, capa de máscara, capa antireflexión

2. valor del rendimiento

1. Plataforma de carga manual de gran tamaño(406 mm)

2. excelente limpieza

3. alta uniformidad

4. alto rendimiento

5. software confiable

6. pequeña superficie ocupada

7. rentable

8.Fácil mantenimiento

9.Adopta el componente principal de la industria

3. soluciones probadas

· una amplia gama de procesos "llave en mano"

· alta uniformidad de la película a través de una cabeza de pulverización optimizada

· altos estándares de utilización y fiabilidad - uso de componentes OEM de primer nivel (nivel i), vacío rápido, detección opcional de puntos finales in situ para evitar la limpieza excesiva

· disfrutar de servicios y apoyo reconocidos

· control de tensión mediante dilución de baja frecuencia o helio