Fuente de plasma remota de semiconductores MKS astron2l RPS

Fuente de plasma remota de semiconductores MKS astron2l RPSEs una fuente de plasma remota de alto rendimiento con excelente rendimiento y alta fiabilidad probada a largo plazo, y es un subcomponente clave del proceso de limpieza de la Cámara de depósito y grabado, eliminando la acumulación de subproductos del proceso desde la pared de la cámara, aumentando la vida útil de las herramientas del proceso y reduciendo la fuente de contaminación de La película.Astron series rps es ampliamente utilizado en los enlaces de limpieza de varios procesos de semiconductores.Se puede instalar en obleas de silicio o salas de proceso de sustrato de gran área en diferentes configuraciones. El RPS de la serie Astron funciona bien y es más económico y confiable, proporciona la limpieza necesaria de la Cámara de gas de reacción para la Cámara cvd, FpD (pantalla plana), limpieza de la Cámara solar, apilamiento de cenizas fotorresistentes, oxidación, nitrificación y reducción química.

Fuente de plasma remota de semiconductores MKS astron2l RPSParámetros técnicos

Modelo de dispositivo: Astron ax7657 - 85,P/N 0190-41326W

Entrada ac: 208v ~, 3 Fase ~, 50 / 60hz, 30a

Modo de disipación de calor: refrigeración por agua y disipación de calor

Presión del agua refrigerada por agua: 100 psig (max.)

Interfaz de comunicación: RS - 232 / Cost I / o