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Parque kechuang, Distrito de wujiang, ciudad de suzhou, Provincia de Jiangsu
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Equipo de muestreo del pulidor de sección transversal jeol electrónico japonésPara satisfacer las diversas necesidades del mercado, se utilizan mesas de muestras multipropósito para diversificar las funciones mediante el intercambio de varios asientos de muestras funcionales.
Pulidor de sección transversalSegún sea necesario, se pueden seleccionar diferentes asientos funcionales de muestra, que no solo pueden grabar secciones transversales, sino también grabar planos, recubrimientos de pulverización de haz de iones, etc.
◇ el alto rendimiento se puede grabar en poco tiempo equipando una fuente de iones de alta velocidad y utilizando la función de procesamiento automático de inicio, sin pasar tiempo esperando que comience el procesamiento.
◇ el procesamiento rápido y el acabado de los programas de mecanizado automático se pueden programar, y las secciones transversales de alta calidad se pueden preparar en poco tiempo. Además, utilizando el modo de procesamiento intermitente, también se puede inhibir la temperatura de procesamiento.
◇ la configuración de un asiento de muestra funcional simple adopta un diseño modular, y la posición de procesamiento también se puede ajustar bajo un microscopio óptico (vendido por separado).
◇ al seleccionar varios asientos funcionales de muestra, el Banco de muestras multipropósito no solo puede grabar secciones transversales, sino también realizar grabado plano, recubrimiento por pulverización de haz de iones, etc.
◇ la durabilidad de las persianas de alta durabilidad es aproximadamente tres veces mayor que la de los modelos antiguos, lo que puede soportar el procesamiento de alta velocidad y el grabado a largo plazo.
Principales indicadores técnicos
| Tensión de aceleración de iones | 2 a 8 kV |
| Tasa de grabado | 500μm/h |
| Tamaño máximo de la muestra portadora | 11 MM (ancho) × 10 mm (longitud) × 2 mm (espesor) |
| Función de oscilación de la muestra | Durante el grabado, la muestra se balancea automáticamente ± 30 ° (no. 4557130) |
| Modo de inicio de procesamiento automático | El procesamiento se puede iniciar automáticamente después de alcanzar el valor de presión establecido. |
| Modo de procesamiento intermitente | El pulso controla la irradiación del haz de iones, lo que puede inhibir el calor generado durante el procesamiento. |
| Modo de acabado | Después del procesamiento principal, el acabado comienza automáticamente. |