Deposición de capa atómica térmica

Introducción del equipo:

Escritorio pequeñoLas herramientas ALD (depósito de capas atómicas) están diseñadas para operaciones e instalaciones simples sin sacrificarSu sexopoder, paraInvestigación y desarrollo rentables.

Con componentes de clase semiconductora, cables de sellado metálico y potentesInterfaz de usuario impulsada por plc, que puede circular rápidamente y película multicomponente de alta calidad, fácil de mantener，Funcionamiento repetible y seguro.

Parámetros técnicos:

·Tamaño l * w * h: 62,3 * 61 * 40cm (4 pulgadas)

·másaltotibiogradoPoderLlegar315℃

·OroGéneroselladoTuboDao(Reducir la atmósferaContaminaciónTeñirdemáquinaLa reunión(...)

·3 fuentes de metales orgánicos (que se pueden calentar a 150 ° c) y 2 fuentes de oxidantes / reductores (el kit de rastreo de calor se puede calentar a 180 ° c),Proporcionar opciones adicionales de copractores

·Válvula ALD de pulso rápido resistente a altas temperaturas, equipada con metano ultrarápido para soplar gas inerte integrado - estándar

·Adecuado para sustratos de 4, 6 y 8 pulgadas, y disponible con pinzas de Chuck personalizadas opcionales (grandes y múltiples cámaras (3 piezas paraObleas superiores) disponibles)

·EstáticoantiDeberíaModeloTipoabajoPoderRealactualaltoCubrirTapa

·Colección de bandasEnPLCcontrolde7 pulgadasMostrarMostrarPantalla

·De por vidasuavepiezaSubirNivel

Opciones disponibles

·Chuck personalizado / base | generador de ozono | qcm (microequilibrio de cristal de cuarzo), calentador de botella

·Diseño de ampollas para su botella | actualización adicional de la línea de calentamiento del cuerpo delantero a 185 ℃ conexión integrada de la guantera

·Carcasa del cuerpo delantero ventilado | personalización de la cavidad en forma especial | sistema personalizable de consulta

Ventajas del equipo

ØEl fabricante esExpertos en el campo de la ALD

ØComponentes de alta calidad (líneas de clase semiconductora, válvulas, sellos metálicos (sin agua o intrusión de aire))

ØConfiable..El control del PLC - sin actualización del conductor, sin tarjeta adicional) y confiable (muy fácil de mantener)

ØEstá diseñado para técnicos de laboratorio.

ØPequeño y compacto (no ocupa espacio)

ØLa Cámara de pequeño volumen implica una rápida deposición y menos residuos precursores y una penetración profunda en la estructura tridimensional

ØTiempo de calentamiento rápido (y enfriamiento)

ØLos productos químicos se separan de los reactivos, por lo que no se depositan en tuberías, válvulas, etc.....

ØCorta longitud entre el cuerpo delantero y la cavidad (menos posibilidades de bloqueo de la línea)

ØLa operación es simple..150 menús junto con la receta estándar)

¿¿ por qué elegir?AnricTecnología???

La corriente principal del mundoFabricantes de ald, comoASM Internacional N.V., Beneq,Picosun, Instrumentos Oxford，Tel y otras, estas grandes fábricas se centran en equipos industriales de ald.

AnricTecnología: Concéntrese en minions pequeños, de escritorioEl equipo ALD tiene una operación simple y un mantenimiento económico y conveniente, especialmente adecuado para usuarios de investigación científica.

Presentación del investigador y desarrollador:

Philippe de Rouffignac,DoctoradoGraduado deUniversidad de Harvard, Departamento de Química, tutorProfesor Roy Gordon, Durante la lectura de la expo, se diseñaron y desarrollaron varias unidades.Dispositivos ALD y en HarvardCentro para Sistemas NanoscaleEl trabajo, durante el cual se llevó a caboincluirDesarrollo de prefabricados CVD / ALDY luego salió a fundarAnríc Tecnología, centrado en mini y escritorio para investigación de laboratorioALD.