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VTC - 1hd - zf2 medidor de recubrimiento por evaporación por pulverización de magnetrón de alto vacío

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Descripción general

El medidor de pulverización y evaporación de magnetrón de alto vacío VTC - 1hd - zf2 es un equipo multifuncional de recubrimiento de alto vacío. El medidor de pulverización de magnetrón de un solo objetivo se puede utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de politetrafluoroeftalato, etc.

Detalles del producto

Descripción del productoVTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪

El medidor de pulverización y evaporación de magnetrón de alto vacío VTC - 1hd - zf2 es un equipo multifuncional de recubrimiento de alto vacío. El medidor de pulverización de magnetrón de un solo objetivo se puede utilizar para preparar películas ferroeléctricas de una o varias capas, películas conductoras, películas de aleación, películas semiconductoras, películas cerámicas, películas ópticas, películas de óxido, películas duras, películas de politetrafluoroeftalato, etc.

Esta máquina está equipada con un barco de calentamiento al vapor, que es especialmente adecuado para el vapor de películas metálicas más sensibles al oxígeno (como ti, al, au, etc.), y hay un deflector giratorio por encima del barco de calentamiento; 2 estaciones de trabajo de horno de fuente de haz (estándar con 1 horno de fuente de haz); Un grupo de medidores de flujo (un Grupo de argón) tiene una ventana de Observación de vidrio Phi 150.

Parámetros técnicosVTC-1HD-ZF2高真空磁控溅射蒸发镀膜仪

nombre del producto

VTC - 1hd - zf2 medidor de recubrimiento por evaporación por pulverización de magnetrón de alto vacío

Modelo del producto

VTC-1HD-ZF2

Parámetros principales

1. Cámara de vacío: Phi 324x330

Vacío límite 6.0x10 - 4pa (con bomba molecular de turbina FF - 150 litros nacional + bomba mecánica)

Tasa de fuga: 2.0x10 - 10pa.m3 / s

El material es 304 soldadura de acero inoxidable, pulido electroquímico de la superficie.

El sello en el lugar móvil está sellado con un anillo de sellado de goma, y el sello en el lugar inactivo está sellado con un anillo de sellado de cobre.

La transmisión de potencia adopta el método de acoplamiento magnético.

Una diana de control magnético en la Cámara de vacío, un grupo de electrodos de evaporación (dos), dos estaciones de trabajo de horno de fuente de haz (estándar con un horno de fuente de haz).

Un grupo de medidores de flujo (un Grupo de argón) tiene una ventana de Observación de vidrio phi150, y la interfaz de brida c35 está reservada.

2. objetivo de pulverización: 2 pulgadas (phi 50,8 mm)

Vacío de trabajo: 10 Pa a 0,2 pa

Tasa de utilización del objetivo: > 35% (objetivo estándar de cobre de 3 mm, vacío del objetivo de 0,5 pa)

MAX功率: 240W (enfriamiento completo)

Tensión de aislamiento: > 2000v (con una fuente de alimentación de corriente continua de 500w)

3. evaporación de la resistencia:

Tensión de salida por evaporación: AC 0 - 8V ajustable continuamente

Corriente de evaporación límite 200a

Potencia de evaporación límite inferior a 1,6 kW

La temperatura es incontrolable e impredecible.

4. horno de fuente de haz: capacidad del crisol: 3cc

Temperatura de calentamiento: temperatura ambiente - 700 ° C

La temperatura de calentamiento es medible, ajustable y controlable.

Precisión de control de temperatura: + 0,5 ° C

Está equipado con crisol de cuarzo estándar, con deflector y termómetro.

Potencia de alimentación: 500w, 36v

5. Mesa de muestras: Phi 120

Control de temperatura: temperatura ambiente - 500 ° C

Revolución: 1 - 20 RPM

La Mesa de muestra se puede levantar y bajar manualmente, y el límite superior del viaje se puede ajustar: 50 mm

6. medidor de espesor de película eq - tm106 - 1

1) fuente de alimentación: DC 5v (+ 10%), corriente Max 400 ma

2) resolución de frecuencia: + 003hz

3) resolución del espesor de la película: 00136 Ö (aluminio)

4) precisión del espesor de la película: + 0,5%, dependiendo de las condiciones del proceso, especialmente la ubicación del sensor, el estrés del material, la temperatura y la densidad.

5) velocidad de medición: 100ms - 1s / vez, se puede configurar

6) alcance de la medición: 500.000 (aluminio)

7) cristal del sensor estándar: 6 MHz

8) interfaz informática: interfaz serie RS - 232 / 485 (se pueden configurar las tasas de Baud 1200, 2400, 4800, 9600, 19200, 38400, bits de datos: 8, bits de parada: 1, verificación: ninguno)

9) salida analógica: resolución de 8 bits, salida de modulación de ancho de pulso PWM (coleccionista abierto o salida interna 5v)

10) ambiente de trabajo: temperatura 0 - 50 ° c, humedad 5% - 85% rh, sin gotas de agua condensada

11) tamaño exterior: 90 mm x 50 mm x 18 mm

7. el equipo está equipado con un enfriador de agua estándar (modelo kj5000), y el cliente tiene su propio enfriador de agua y agua desionizada o pura.

8. entrada de energía de toda la máquina: ac220v / 50hz. Potencia inferior a 3,5 KW.

9. especificaciones del producto:

Tamaño: aproximadamente 1.300 mm x 660 mm x 1.200 mm; peso: aproximadamente 160 kg