Sistema de litografía sin máscara de dos fotones de Quantum x shape

Como un sistema de Impresión 3D similar antes de la Superliga China

Forma X cuántica Se puede imprimir en cualquier forma, con un tamaño mínimo de hasta 100 nm y un engrosamiento simultáneo de la superficie.(R)a(...)Menos de 5 nm y hasta 25 cm de área máxima

El sistema de impresión con la función de módulo automático de goteo de pegamento puede alcanzar una eficiencia de 200 estructuras características durante la noche.

Material de polimerización de dos fotones de alto rendimiento universal, adecuado para la impresión de polímeros y vidrio.

Reformar la precisión.

Como ya reconocido por la industriaNanoscribeEl sistema de procesamiento de segunda generación de la plataforma Quantum x lanzado por la compañía,Sistema de litografía sin máscara de dos fotones de Quantum x shapeEn el campo del micro y Nano - procesamiento 3DSorprendentemente altoPrecisión, comparable aNanoscribeLa compañía es innovadora en aplicaciones de estructuras superficialesLitografía a escala de grises de dos fotones(2GL ®)。 NuevoForma X cuánticaLa alta precisión depende de la relación de modulación de voxel y la red de procesamiento ultrafino con su mayor capacidad, logrando así el control de tamaño de voxel. Además, se beneficiaLitografía a escala de grises de dos fotonesPara el ajuste fino de voxel, el sistema puede lograr un ultraliso en la fabricación de microestructura superficial, manteniendo un control de forma de alta precisión.

Reformar la salida.

Sistema de litografía sin máscara de dos fotones de Quantum x shapeNo solo se aplica a la biomedicina, la micrografía, MEMS、 Las herramientas ideales para la rápida creación de prototipos de dispositivos en microcanales, ingeniería de superficies y muchos otros campos también se han convertido en herramientas simples para la producción en masa de pequeñas unidades estructurales basadas en obleas.

Reformar la usabilidad.

La practicidad se mejora considerablemente mediante la integración del sistema de pantalla táctil para controlar los archivos impresos. A través del software nanoconnectx propio del sistema, se realiza el monitoreo remoto de los archivos impresos y la configuración de uso multiusuario para promover la estandarización industrial y la producción eficiente por lotes basada en obleas.

Características principales:

Impresión a escala nanométrica: control a escala característica en cualquier dirección espacial, hasta 100 nm

* control de voxel ultrarrápido y micro - nanoprocesamiento 3D de alta velocidad de la red de procesamiento de 100 nm

* precisión de la trayectoria a la velocidad de escaneo más rápida garantizada por el control de la pista del espejo vibrante

* control y posicionamiento de energía láser de alta precisión garantizado por la ruta de autocuración automatizada

* amplia gama de opciones para sustratos y pastillas de silicio de hasta 6 pulgadas

Producción industrial en masa: 200 estructuras de escala mesoscópica estándar producción nocturna

* pantallas táctiles y funciones de control remoto que garantizan practicidad y experiencia

* prototipos rápidos, alta precisión, alta libertad de diseño, flujo de trabajo simple y claro

Producción en masa a nivel de obleas verificada industrialmente

* materiales de impresión generales y especiales

Compatible con materiales impresos autónomos y de terceros