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Sistema de litografía sin máscara de dos fotones de la serie qx de nanoscribe

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Descripción general
El sistema de litografía sin máscara de dos fotones de la serie nanoscribe qx - Quantum X alling, como equipo de Impresión 3D certificado en la industria, tiene la tecnología de litografía de dos fotones a2pl ® ¿ 174; Se puede lograr una alineación precisa a nivel nanométrico en fibra óptica y chips fotónicos.
Detalles del producto

Sistema de litografía sin máscara de dos fotones de la serie qx de nanoscribeLograr la resolución máxima
A2PL ® Tecnología Impresión 3D aplicada a la alineación de precisión a nivel nanométrico

Litografía de dos fotones alineada con el nuevo Quantum x alineado (a2pl)®) el sistema logra una colocación precisa de estructuras de alta precisión a través de la nueva función de alineación de alta precisión, mejorando la tecnología de micro - nanomecanizado tridimensional reconocida por el público en general de nanoscribe. Este dispositivo de impresión de máxima resolución con función de Impresión 3D de alineación de precisión a nivel nanométrico utiliza la tecnología a2pl, y los originales de Micrografía de superficie libre se pueden imprimir en el eje óptico de fibra óptica o chip fotónico con alineación precisa de precisión submicron. Se puede aplicar a la producción de interconexiones ópticas eficientes para la integración fotónica y encapsulamiento o miniaturización de dispositivos ópticos de imagen, como para la endoscopia mínimamente invasiva, etc.


De la alineación a la impresión se completa en un solo paso

El encapsulamiento de dispositivos médicos fotovoltaicos integrados o miniaturizados generalmente requiere un engorroso proceso de colocación y alineación de interfaz óptica a2pl entre varios elementos fotovoltaicos. El proceso se simplifica con la tecnología a2pl, que permite la detección automática de la interfaz óptica en un chip fotónico o núcleo de fibra óptica y su dirección espacial, así como la microóptica de superficie libre o los elementos difractivos que se pueden imprimir directamente en su lugar. Al mismo tiempo que se logran equipos más compactos, se reduce la mala mano de obra de montaje y se reduce considerablemente la complejidad de la cadena de proceso, evitando el proceso de alineación manual que originalmente era costoso.

Alinear fibra óptica y chips fotónicos

Cuando se imprime en una matriz de fibra óptica de ranura única o v, el sistema automático de detección de núcleo de fibra óptica 3D y la función de corrección automática de inclinación garantizan una alineación precisa y una baja pérdida de acoplamiento.
Quantum x align también cuenta con un módulo de imagen confocal para la composición 3D de la topología de base y puede alinear automáticamente marcas predefinidas o guías de onda. Esto convierte a Quantum X - align en una impresión directa de componentes fotogénicos en la superficie o faceta de un chip fotónico
efectivoHerramienta, adecuada para encapsulamiento fotónico en fabricación industrial.

Implementar con precisión sus ideas

El sistema de alineación 3D con precisión nanométrica, junto con un potente y fácil de usar flujo de trabajo, abre nuevas oportunidades para otras aplicaciones de micro - nanoprocesamiento fuera de la micro - nanoóptica tridimensional. De los microfluídicos a los complejos sistemas de sensores o microelectromes: Quantum x align es un micromecanizado 3D de alta precisiónefectivoHerramientas que permiten el posicionamiento automático con la máxima precisión en una base 3D compleja.


Sistema de litografía sin máscara de dos fotones de la serie qx de nanoscribeParámetros técnicos
  • Micro y nanomecanizado 3D de alto rendimiento a través de la tecnología de litografía de dos fotones alineados (a2pl)

  • Impresión 3D en fibra óptica: impresión de alineación precisa en la superficie de la fibra óptica basada en la función de detección del núcleo de fibra

  • Impresión 3D en el chip: impresión alineada con precisión en la superficie del Chip o en la cara basada en la composición topológica del sustrato 3D

  • Tecnología de alineación 3d: detección automática y compensación de inclinación del sustrato en tres ejes giratorios

  • Micro y Nano - mecanizado de alta velocidad Corte inteligente

Programa de impresión y flujo de trabajo
  • Impresión 3D de alta precisión basada en la polimerización de dos fotones (2pp)

  • Configuración simple y confiable con litografía láser DIP - in (dill)

  • Control de tamaño característico de 100 nanómetros

  • La litografía de dos fotones alineada (a2pl) logra una impresión 3D precisa en una posición predefinida


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