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Medidor de pulverización de iones de magnetrón GVC - 2000

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Descripción general
El salpicadero de iones de magnetrón GVC - 2000 tiene partículas más pequeñas y es más adecuado para la observación de imágenes de alta potencia, adecuado para la emisión de campo / microscopía electrónica de emisión de campo de alta resolución.
Detalles del producto
Medidor de pulverización de iones de magnetrón GVC - 2000descripción
  1. Básicamente no hay aumento de temperatura ni pérdida de calor en la superficie de la muestra.

GVC-2000磁控离子溅射仪 GVC-2000磁控离子溅射仪

Mapa de efectos de preparación de muestras GVC - 2000 mapa de efectos de otros equipos de preparación de muestras

Las dos imágenes anteriores son imágenes de microscopía electrónica de muestras de membrana filtrante, y la imagen izquierda es una imagen de Observación de microscopía electrónica después de la pulverización de oro GVC - 2000. se puede ver que la morfología de la muestra es verdadera y completa, y la imagen derecha es una imagen de Observación de microscopía electrónica después de la pulverización de oro de otros equipos. se puede ver que el daño térmico es grave y casi no se puede identificar como la misma muestra.

  1. Las partículas son más pequeñas y son más adecuadas para la observación de imágenes de alta potencia, adaptadas a la microscopía electrónica de emisión de campo / emisión de campo de alta resolución.

GVC-2000磁控离子溅射仪 GVC-2000磁控离子溅射仪

Tamaño de las partículas de oro: 6 a 10 nm

GVC-2000磁控离子溅射仪 GVC-2000磁控离子溅射仪

Película cerámica, material de recubrimiento pt, 100.000 veces imagen, material de película filtrante sin partículas, material de recubrimiento pt, 200.000 veces imagen, sin partículas.

  1. Medidor de pulverización de iones de magnetrón GVC - 2000El chorro de alta corriente de baja tensión es más eficiente.