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Correo electrónico
1399511421@qq.com
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Teléfono
18049905701
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Dirección
Edificio C 220, 1369 Kangqiao East road, Shanghai
Categorías de producto
Shanghai peiyuan Instrument and Equipment co., Ltd.
Máquina de grabado de plasma nacional
NegociableActualización en01/14
- modelo
- Naturaleza del fabricante
- Productores
- Categoría de producto
- Lugar de origen
Descripción general
La máquina de grabado por plasma nacional Pluto - MH es una plataforma experimental innovadora desarrollada para universidades, institutos de investigación científica y laboratorios empresariales, o empresas innovadoras con producción en pequeños lotes. Para las diferentes necesidades de los usuarios, ofrecemos diferentes accesorios funcionales, mientras obtenemos propiedades convencionales, tenemos una variedad de capacidades, como recubrimiento superficial (recubrimiento), grabado, reacción química de plasma y tratamiento de plasma en polvo.
Detalles del producto
Máquina de grabado de plasma nacional Pluto - MHCaracterísticas:
1. para uso en situaciones en las que hay requisitos estrictos para el tratamiento del plasma
2. la fuente de plasma solo utiliza un generador de radiofrecuencia de 13,56 mhz, teniendo en cuenta las reacciones físicas y químicas.
3. se utiliza una fuente de alimentación de 500w, emparejamiento automático de resistencia, generador de radiofrecuencia de alta potencia puede hacer frente a varios requisitos experimentales y garantizar una alta densidad de energía y alta eficiencia de procesamiento.
4. control de vacío de alta precisión para adaptarse a diversas necesidades de procesamiento
5.316 cavidad de acero inoxidable (o aleación de aluminio 6061), tuberías y conectores de acero inoxidable completos, adecuados para varios gases (incluidos gases corrosivos)
Pantalla táctil industrial de 6.4.3 pulgadas, fácil de operar con software, múltiples parámetros y modo de procesamiento combinado de procesos
7. se pueden agregar varios accesorios, recubrimiento, control de temperatura de electrodos, control de intensidad de plasma, reacción química de plasma y otras funciones (si tiene aplicaciones especiales, consulte al personal de ventas)
8. proporcionar programas de procesamiento de plasma correspondientes y equipos especiales personalizados de acuerdo con las necesidades de los usuarios
Máquina de grabado de plasma nacional Pluto - MHParámetros:
Especificación de la cavidad de vacío: cavidad de acero inoxidable 316, diámetro 210mm * (profundidad) 230mm aproximadamente 4l
Electrodos: dos electrodos planos autoadaptados, aleación de aluminio t6061 (se pueden proporcionar electrodos planos sin agujeros recubiertos de teflon, adecuados para muestras que requieren tratamiento de doble cara)
Tamaño del electrodo: 120 * 135mm de distancia 20 a 75 mm ajustable (reversible)
Generador de plasma: generador de radiofrecuencia, frecuencia: 13,56 MHz
Potencia: 0 - 500w ajustable continuamente, coincidencia automática de resistencia, precisión 1w
Control de gas: válvula de flujo de gas de aguja, estándar con 1 gas, tubería y conexión de acero inoxidable completo
Modo de control: pantalla táctil de control industrial de 4,3 pulgadas
Función del software de control: la interfaz muestra el Estado de trabajo en tiempo real,
Se pueden mostrar los valores de configuración y los valores reales, lo que facilita el control en tiempo real.
Se puede configurar libremente la Potencia de plasma y el tiempo de entrada de gas.
Permisos de operación de varios niveles, Control combinado de varios parámetros de proceso,
Control totalmente manual y control totalmente automático opcional
Dispositivo de protección: botón de protección de parada de emergencia con un solo clic
(para otras funciones, consulte al personal de ventas)
Máquina de grabado de plasma nacional Pluto - MHÁreas de aplicación:
Configurar diferentes módulos y ampliar diferentes aplicaciones
Módulo de electrodos de calentamiento - temperatura controlable, que puede acelerar la velocidad de procesamiento de plasma y mejorar en gran medida la uniformidad del procesamiento de muestras
Depositar el módulo de recubrimiento y cambiar las características de la superficie:
Depósito de material cf, la superficie de la muestra puede tener propiedades hidrofóbicas
Depósito de materiales que contienen benceno, la superficie de la muestra se caracteriza por el aislamiento y la impermeabilidad.
Depósito de materiales que contienen grupos hidroxi para mejorar el efecto de Unión de la superficie de la muestra con otros materiales
Módulo de acoplamiento por inducción - dispositivo de plasma de acoplamiento por inducción
Dispositivo de mezcla de gas
Se puede diseñar la mezcla de gas según sea necesario.
Purificación y reacción de gases
Purificación de gases y uso de plasma para reacciones químicas con materiales relacionados
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