Sistema automático de medición y análisis del espesor de la película de escritorio

NegociableActualización en02/09

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Descripción general

Detalles del producto

El monitoreo del espesor de la película en línea de la Epitaxia de obleas wafer es una tecnología clave en la fabricación de semiconductores, que utiliza principalmente métodos de medición óptica sin contacto para realizar el monitoreo y control del espesor en tiempo real durante el crecimiento de la epitaxia.

La serie NS - 30 es un sistema automático de medición y análisis del espesor de la película de escritorio producido por Suzhou Zhizhi Technology co., ltd., que se utiliza especialmente para el monitoreo del espesor de la película en línea de la Epitaxia de obleas wafer. El equipo adopta tecnología avanzada de medición óptica, tiene las características de alta precisión, alta estabilidad e inteligencia, y desempeña un papel importante en el campo de la fabricación de semiconductores.

　　I. principios tecnológicos básicos

El medidor de espesor de película de la serie NS - 30 se mide sobre la base del principio de interferencia de luz blanca. El equipo irradia verticalmente luz de banda ancha de alta estabilidad a la película en la superficie de la obleas a medir, la luz incidente se refleja en la superficie superior de la película, y otra parte se transmite a la película y se refleja en la interfaz entre la película y el sustrato. Estos dos haces de luz reflejada interfieren entre sí para formar patrones de interferencia, y los parámetros de espesor, índice de refracción y reflectividad de cada capa de la película se pueden calcular a través del análisis espectral y el algoritmo de regresión.

　　II. principales parámetros técnicos
主要技术参数

　　III. características de las funciones básicas

1. capacidad de medición de alta precisión

Precisión nanométrica: la precisión de medición puede alcanzar los 0,02 nm, logrando la medición del espesor de la película nanométrica;

- alta repetibilidad: precisión de repetición de 0,02 nm para garantizar la consistencia y fiabilidad de los resultados de las mediciones;

- amplio rango de medición: cubre el rango de medición de espesor de 1 nm - 250 micras para satisfacer las diferentes necesidades de aplicación;

2. función de medición automatizada

- plataforma automática de medición de muestras: el tamaño de la Plataforma es opcional de 100 mm - 450 mm, que admite la medición de obleas de gran tamaño;

Distribución inteligente de puntos: el software genera automáticamente la distribución de puntos de medición de acuerdo con la demanda y admite la medición automática de múltiples puntos;

- cartografía 2d / 3d: generar mapas de distribución 2D y 3D de parámetros como espesor, índice de refracción y reflectividad;

3. medición no destructiva sin contacto

- óptica sin contacto: medición sin contacto para evitar daños en la superficie de la obleas;

- Medición de la película multicapa: se puede medir el espesor y los parámetros ópticos de cada capa de la película compuesta multicapa;

- adaptabilidad del material: adecuado para recubrimientos transparentes o translúcidos, incluidos óxidos, nitruro, Fotorresistencia y otros materiales;

　　IV. aplicaciones en el monitoreo de la Epitaxia de obleas Wafer

1. ventajas del control del proceso

La serie NS - 30 desempeña un papel clave en el proceso de Epitaxia de obleas wafer:

- Monitoreo en tiempo real: se pueden realizar mediciones in situ en línea en procesos como la deposición de capas atómicas ALD y la deposición química de vapor cvd.

- Optimización del proceso: ajuste y optimización en tiempo real de los parámetros del proceso a través de la retroalimentación precisa de los datos de espesor de la película

- garantía de calidad: garantizar la uniformidad del espesor de la capa epitaxial y mejorar el rendimiento y la fiabilidad de los dispositivos semiconductores

2. mejora de la eficiencia de la medición

- Medición de alta velocidad: tiempo de medición único inferior a 1 segundo, soporte de detección rápida por lotes

Procesamiento por lotes: admite la transmisión automática de cajas de cristal de 8 pulgadas, lo que mejora significativamente la eficiencia de la medición

Análisis inteligente: equipado con un potente software de análisis, análisis estadístico SPC automático y gestión de datos

3. expansión del campo de aplicación

Además del monitoreo de Epitaxia de obleas wafer, la serie NS - 30 también es ampliamente utilizada en:

¿Fabricación de semiconductores: ¿ medir sio? 、 SiNx、 Películas clave como el polisilicio

¿- fotovoltaica: ¿ al de topcon? / película laminada sinx, película conductora transparente TCO de hjt

- recubrimiento óptico: capa antirreflectante ar, recubrimiento antiaglomerante ag, filtro, etc.

- paneles de visualización: medición del espesor de películas como oled, TFT e Ito

Con sus características de alta precisión, alta estabilidad e inteligencia, El medidor automático de espesor de película de escritorio de la serie NS - 30 proporciona una solución confiable para el monitoreo de espesor de película en línea de la Epitaxia de obleas wafer y desempeña un papel importante en la fabricación de semiconductores, fotovoltaica, visualización y otros campos de alta tecnología.

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