La serie NS - 30 (medidor automático de espesor de película de escritorio) es un sistema automático de medición y análisis de espesor de película de escritorio. Sobre la base de la medición del espesor de la película, se puede superponer la Plataforma de carga de muestra automática para medir automáticamente los puntos establecidos y generar aún más mapas de distribución de datos 2D y 3D. La serie NS - 30 es adecuada para la medición del espesor de la película de obleas o la medición del espesor de la película de células fotovoltaicas.
La serie NS - 30 (medidor automático de espesor de película de escritorio) es un sistema automático de medición y análisis de espesor de película de escritorio. RealizableMedición del coeficiente de extinción del índice de absorción del índice de refracción,Sobre la base de la medición del espesor de la película, se puede superponer la Plataforma de carga de muestra automática para medir automáticamente los puntos establecidos y generar aún más mapas de distribución de datos 2D y 3D. La serie NS - 30 es adecuada para la medición del espesor de la película de obleas o la medición del espesor de la película de células fotovoltaicas.

I. características de la serie NS - 30 (medidor automático de espesor de película de escritorio)
1. la muestra se mide automáticamente, y el tamaño de la Plataforma es opcional de 100 mm a 450 mm;
2. el software genera automáticamente la distribución de los puntos de medición de acuerdo con los requisitos;
3. efectos de topografía y cartografía 2D y 3d, que incluyen información sobre espesor / índice de refracción / reflectividad;
4. se puede medir el estrés de la película y la flexión de la superficie (tensión / bow);
II. especificaciones de los parámetros del medidor automático de espesor de película de mapeo NS - 30
| modelo | NS-30UV | el NS-30 | NS-30NIR |
| Rango de longitud de onda | 190 nm – 1100 nm | 380 nm – 1050 nm | 950 nm a 1700 nm |
| Rango de medición del espesor1
| 1 nm a 40 μm | 15 nm a 80 μm | 150 nm a 250 μm |
| precisión2
| 1 nmO0,2%
| de 2 nmO0,2%
| 3 nmO0,4%
|
| Precisión3
| 0,02 nm | 0,02 nm | 0,1 nm |
| Estabilidad4
| 0,05 nm | 0,05 nm | 0,12 nm |
| Tamaño del punto de luz | 1,5 mm | 1,5 mm | 1,5 mm |
| Velocidad de medición | < 1s(medición única)
| < 1s(medición única)
| < 1s(medición única)
|
| fuente de luz | Lámpara halógena de tungsteno- sí.Lámpara de deuterio
| Lámpara halógena de tungsteno | Lámpara halógena de tungsteno |
| Tamaño de la muestra | Diámetro desde1 mma300 mmO más
| Diámetro desde1 mma300 mmO más
| Diámetro desde1 mma300 mmO más
|
1 depende del material específico
2 muestras estándar de si / sio2 (500 a 1000 nm)
3 calcular la desviación estándar del doble de la placa estándar de sio2 de 500 nm medida 100 veces, y tomar la media de la desviación estándar del doble de 20 días de medición efectivos.
4 calcular el promedio de 100 mediciones de la placa estándar de sio2 de 500 nm y duplicar la desviación estándar del promedio de 20 días de medición efectivos