Como un equipo ampliamente utilizado para la preparación de películas finas, el chorro de magnetrón de corriente continua a menudo encuentra muchos problemas en su uso práctico. Estos problemas suelen involucrar la estabilidad del proceso, la calidad de la película delgada, el mantenimiento del equipo y otros aspectos. Los siguientes son el peinado de los problemas comunes, el análisis de las causas y las sugerencias de solución:

I. el plasma es inestable o no puede brillar

1. manifestaciones de los problemas:

La descarga de brillo es inestable, parpadeante o palpitante.

No se puede iniciar el brillo normalmente, no se produce plasma.

2. posibles causas y contramedidas:

Vacío insuficiente: el vacío de fondo o la presión de trabajo no cumplen con los requisitos de arranque. Se debe comprobar si el sistema de vacío (bomba, válvula, tubería) tiene fugas.

Problema de admisión de gas: el gas de trabajo ar es impuro o hay demasiado poco argón en la cavidad, lo que resulta en brillo Anormal.

Problemas con el material objetivo: el consumo excesivo del material objetivo conduce a una exposición incompleta de la zona de la pista de control magnético, envenenamiento del material objetivo (cuando Se pulveriza la reacción) o mal enfriamiento de la placa posterior, lo que resulta en una temperatura excesiva en la superficie del objetivo. Compruebe el Estado del objetivo para garantizar que el agua de enfriamiento sea fluida.

Mala puesta a tierra: mala puesta a tierra de la cavidad o la Mesa de muestra, lo que resulta en un circuito de descarga Anormal. Compruebe todas las conexiones eléctricas y los cables de tierra.

II. problemas de calidad de las películas

1. poca adherencia:

Causas: el sustrato no está limpio a través del Fondo 1, la temperatura del sustrato es demasiado baja, el bombardeo de iones en la etapa inicial de la deposición es insuficiente (el sesgo no está abierto o demasiado bajo), o el estrés en la película es demasiado grande.

Contramedidas: limpieza de sustratos (limpieza ultrasónica, limpieza de plasma); Aumentar adecuadamente la temperatura del sustrato; Abrir el sesgo del sustrato para la limpieza de iones y fortalecer la fuerza de Unión del sustrato de membrana; Optimizar los parámetros del proceso (recubrir una película inferior que aumente la adherencia antes del recubrimiento, como el níquel).

2. película desigual:

Causas: erosión desigual del objetivo, sustrato no paralelo a la superficie del objetivo, falla de revolución / rotación del sustrato.

Contramedidas: optimizar la distribución del campo magnético del objetivo (utilizando objetivos de control magnético ajustables); Asegúrese de que el Movimiento de traducción o rotación del sustrato sea normal; Ajustar la posición relativa y el ángulo de la base del objetivo; Si es necesario, utilice un deflector para optimizar la distribución del espesor de la película.

Recomendaciones generales de mantenimiento y prevención

1. operación estandarizada: se realiza estrictamente de acuerdo con los protocolos de operación del equipo, especialmente los pasos de bombeo de vacío, inflación, arranque y parada de energía.

2. mantenimiento periódico:

Limpiar regularmente la cavidad, reemplazar el aceite de la bomba e inspeccionar el anillo de sellado.

Calibrar vacío, medidor de flujo, fuente de alimentación y otros componentes clave.

Compruebe el sistema de agua de refrigeración y las tuberías de gas.

3. registro del proceso: registre en detalle los parámetros, fenómenos y resultados de cada operación para facilitar la trazabilidad del problema y la optimización del proceso.

4. precalentamiento completo y preprint: después del arranque y antes del recubrimiento formal, el equipo se precalienta completamente y el objetivo se preprint durante el tiempo suficiente para limpiar el objetivo y estabilizar el plasma.