Con la profunda penetración de la tecnología micro - nano en los campos de la integración fotónica, la biomedicina y la fabricación de microelectromes, diferentes industrias plantean necesidades diferenciadas para la precisión, la compatibilidad de materiales y la eficiencia de procesamiento de las estructuras micro - nano tridimensionales. Nanoscribe tridimensional nanoceroso se basa en la especialidad Li 2gl ® La tecnología de litografía gris de dos fotones, que crea una solución de micro - nanoprocesamiento tridimensional que cubre todo el enlace de "innovación científica - producción industrial en masa", se ha convertido en una opción clave para que varias industrias rompan el cuello de botella del micro - nanoprocesamiento con las ventajas centrales de "alta precisión + alta flexibilidad + adaptación multiescena".

En el campo de la encapsulación fotónica, la tecnología de Impresión 3D micro - nano, especialmente la tecnología de polimerización de dos fotones (2pp), ofrece soluciones innovadoras para el acoplamiento óptico eficiente y de baja pérdida entre fibra óptica y chip con sus ventajas de alta precisión, verdadera capacidad de procesamiento tridimensional y sin máscara.

En conjunto, nanoscribe tridimensional nanoceroso es un estándar de la industria reconocido por el público en este campo. Su tecnología central es la litografía a escala de grises de dos fotones (2gl). ®）， Combinando la precisión de la polimerización de dos fotones con la eficiencia de la litografía gris, es muy adecuado para la fabricación de estructuras complejas de micro y nanoestructuras tridimensionales en envases fotónicos.

I. selección de rutas técnicas

1. polimerización de dos fotones 2pp (escritura directa láser femtosegundo): estructura tridimensional de forma libre de nivel submicron - micron, con un grado de libertad de diseño extremadamente alto, adecuada para microóptica compleja, micromecánica, microfluídica y soportes biológicos; Se puede formar directamente en sustratos complejos, apoyando múltiples materiales y procesos compuestos.

2. litografía a escala de grises de dos fotones 2gl: teniendo en cuenta 2.5d / 3D en el mismo flujo de trabajo, se obtiene un control integrado de supersuavidad superficial e índice de refracción / morfología a través de una modulación fina de la intensidad de "voxel", que es adecuado para la Micrografía de apertura numérica alta, dispositivos de índice de refracción gradiente y matrices de moldes de alta precisión.

3. estrategia compuesta "dos en uno" de láser femtosegundo: en la misma plataforma, se combina la polimerización asimétrica de dos fotones (construcción de articulaciones de hidrogel isotrópicas) con la reducción láser in situ y la deposición de nanopartículas de plata (dotadas de funciones de conducción y detección fototérmica) para microsistemas activos como microautos multiarticulares y dispositivos deformables reconfigurables.

4. impresión directa en fibra óptica / chip: proporciona corrección de inclinación y alineación de múltiples grados de libertad para realizar la fabricación aditiva de sondas sers en la cara final de la fibra óptica, integración híbrida de guía de onda - Micrografía y microestructura 3D en el chip, reduciendo significativamente los costos de encapsulamiento y alineación.

5. lote y automatización a nivel de obleas: procesamiento por lotes para obleas de 6 pulgadas, soporte para distribución automática de resina, procesos multiusuario y monitoreo remoto, teniendo en cuenta las necesidades de prototipos rápidos y producción en pequeños lotes.