El medidor de carbono de evaporación térmica de alto vacío tiene dos modos de trabajo básicos: evaporación continua y evaporación de pulso. su diseño satisface las diferentes necesidades del proceso controlando con precisión el proceso de evaporación. las instrucciones específicas son las siguientes:
I. modo de evaporación continua del carbonímetro de evaporación térmica de alto vacío
1. principios:
Calentar una fuente de carbono (como una fibra de carbono de alta pureza o una barra de carbono) a una potencia constante para que continúe derritiéndose y evaporándose de manera estable, formando un flujo de vapor uniforme en la Cámara de vacío. Los átomos o moléculas de carbono gaseoso se propagan a la superficie del sustrato en movimiento lineal y se condensan en películas sólidas densas capa por capa. Este modo depende del sistema de control de temperatura de circuito cerrado para mantener la velocidad de evaporación constante y controlar la fluctuación de potencia dentro de ± 1%.
2. características:
Alta eficiencia y estabilidad: adecuado para recubrimientos en grandes cantidades o escenarios que requieren formación rápida de películas, como la preparación de capas conductoras de muestras sem.
La película es uniforme: el flujo de vapor continúa cubriendo el sustrato, reduciendo las diferencias de espesor locales y asegurando la consistencia de la película.
Simplificación del proceso: no es necesario iniciar y detener con frecuencia más fuente de calor, y el proceso de operación es más simple.
3. escenarios de aplicación:
Se preparan películas de apoyo tem que transportan rebanadas ultrafinas o nanopartículas.
Como capa protectora o eléctrica en el análisis de superficie (como el análisis EDS del espectro de energía de rayos x).
Demanda de recubrimiento por lotes en el campo industrial (como la capa conductora de componentes electrónicos).
2. modo de evaporación de pulso del carbonímetro de evaporación térmica de alto vacío
1. principios:
Se adopta un método de calentamiento intermitente para controlar la evaporación de la fuente de carbono a través de señales de pulso. Durante cada ciclo de pulso, la fuente de carbono se calienta rápidamente a la temperatura de evaporación y libera partículas gaseosas, y luego se suspende el calentamiento para que las partículas de la superficie del sustrato se depositen completamente. Al ajustar la frecuencia del pulso y el ciclo de trabajo, el espesor de la película y el tamaño de las partículas se controlan con precisión.
2. características:
Regulación fina: adecuada para la preparación de películas de carbono ultrafinas o estructuras a nivel nanométrico, y la precisión del control del espesor de la película puede alcanzar el nivel nanométrico.
Reducir el daño térmico: el calentamiento intermitente reduce el aumento de la temperatura del sustrato y evita el impacto de las altas temperaturas en los materiales sensibles.
Refinamiento de partículas: la evaporación pulsada reduce la colisión de partículas gaseosas y forma partículas de película más pequeñas.
3. escenarios de aplicación:
En el análisis ebsd, las características de la superficie de la muestra se optimizan y se necesita una señal de mejora de película de carbono de alta resolución.
El recubrimiento de muestras celulares en el campo de la biomedicina requiere minimizar los efectos térmicos.
Para el recubrimiento de elementos ópticos (como la película antirreflectante), es necesario controlar con precisión las propiedades ópticas de la película.
3. base para la selección del modo del carbonímetro de evaporación térmica de alto vacío
1. requisitos de espesor de la película:
El modo continuo es adecuado para la preparación de películas más gruesas (como el nivel de mu m) y es más eficiente.
El modo de pulso es adecuado para películas ultrafinas (como el nivel de nm) y tiene una mejor precisión.
2. características del material de base:
Los materiales resistentes a altas temperaturas (como los metales) pueden optar por un modo continuo para acortar el tiempo de proceso.
Los materiales sensibles al calor (como polímeros y muestras biológicas) requieren un modo de pulso para evitar la deformación.
3. complejidad del proceso:
Las tareas simples de recubrimiento (como las capas conductoras) simplifican la operación en modo continuo.
Las necesidades de alta precisión (como las nanoestructuras) utilizan el modo de pulso para lograr un control fino.
4. función de soporte del equipo del medidor de carbono de evaporación térmica de alto vacío
1. sistema de vacío: combinación de bomba molecular de turbina + bomba giratoria, vacío límite, vacío de trabajo, para garantizar que el proceso de evaporación no esté contaminado.
2. gestión de la fuente de vapor: cuatro fuentes de vapor de fibra de carbono de alta pureza se pueden alternar para detectar automáticamente el Estado de encendido y apagado y prolongar la vida útil.
3. control de la Mesa de muestras: soporte de rotación manual / automática, dos marchas de alta / baja velocidad ajustables para lograr una deposición uniforme de múltiples ángulos.
4. protección de la seguridad: protección al vacío, protección contra sobrecorriente, protección contra sobrepresión, etc., para evitar que las condiciones anormales de trabajo dañen el equipo.
