El recubrimiento del salpicadero de iones totalmente automático es uniforme y tiene una buena conductividad eléctrica, lo que se debe a su tecnología de salpicadura de magnetón, sistema de control de precisión y capacidad de selección de múltiples objetivos. las ventajas específicas son las siguientes:

I. la tecnología de pulverización de magnetrón garantiza la uniformidad del recubrimiento

1. diseño optimizado del campo magnético: mejorar la uniformidad de la densidad de plasma ajustando la forma del imán, el modo de disposición o moviendo el campo magnético, haciendo que las tasas de pulverización en diferentes posiciones del objetivo sean consistentes, mejorando así la uniformidad de la película. Por ejemplo, la optimización de la distancia entre el objetivo y el sustrato puede evitar la acumulación desigual de partículas de pulverización y garantizar un espesor uniforme de la película.

2. ajuste dinámico de la distancia objetivo - base: los experimentos muestran que con el aumento de la distancia entre el objetivo y el sustrato, la diferencia de espesor de la película entre los diferentes puntos del sustrato disminuye gradualmente y la uniformidad mejora significativamente. Esta característica permite que el salpicadero de iones se adapte a muestras de diferentes tamaños y formas para lograr un recubrimiento de alta precisión.

3. control coordinado de la Potencia de pulverización y el grado de vacío: aumentar la Potencia de pulverización puede ampliar el área de partida del objetivo y hacer que la densidad de potencia sea más uniforme; El aumento del vacío puede reducir la probabilidad de colisión entre los átomos de pulverización y los átomos de gas en la cavidad y optimizar aún más la uniformidad del espesor de la película. Este doble mecanismo de control garantiza la estabilidad de la calidad del recubrimiento.

2. el sistema de control de precisión del salpicadero de iones totalmente automático mejora la conductividad eléctrica

1. tecnología de control de corriente constante: se utiliza una fuente de alimentación de pulverización DC de corriente constante de alta precisión, con una precisión de control de hasta 1 ma, para garantizar la estabilidad de la corriente de pulverización. Esta salida estable de corriente ayuda a formar una capa metálica densa, mejorando así la conductividad eléctrica de la muestra.

2. regulación precisa del entorno de vacío: el entorno de vacío de trabajo (vacío límite inferior a 1pa) se realiza rápidamente a través de una bomba de vacío de hoja giratoria de alto rendimiento, y está equipado con un medidor de vacío pirani de alcance completo para monitorear el vacío en tiempo real. Este control preciso del vacío puede reducir el impacto de las impurezas en el recubrimiento y mejorar la conductividad eléctrica.

3. control de partículas de pulverización a nivel nanométrico: las partículas de pulverización pueden alcanzar el nivel nanométrico ( < 5 nm), y las películas preparadas son densas y Uniformes. Este recubrimiento a nanoescala no solo tiene excelentes propiedades eléctricas, sino que también puede satisfacer las necesidades de observación Sem de alta resolución.

3. la selección de múltiples objetivos para el salpicadero de iones totalmente automático satisface las diversas necesidades.

1. soporte de objetivos de metales preciosos: el chorro de iones apoya la selección de objetivos de metales preciosos como oro, platino, plata y paladio. Estos objetivos tienen una buena conductividad eléctrica y estabilidad química, y pueden satisfacer las necesidades de diferentes muestras de materiales de recubrimiento.

2. conveniencia del reemplazo del objetivo: la cabeza del objetivo está compuesta por un anillo de blindaje, un anillo de presión y un material del objetivo. al reemplazar el material del objetivo, solo necesita aflojar el anillo de blindaje y los tornillos del anillo de presión para quitar fácilmente el material del objetivo antiguo e instalar el nuevo material del objetivo. Este método conveniente de reemplazo de objetivos mejora la flexibilidad y la eficiencia del equipo.

4. verificación del efecto práctico de la aplicación del salpicadero de iones totalmente automático

1. optimización de la observación de la microscopía electrónica de barrido (sem): en la observación de la microscopía electrónica de barrido (sem), el salpicadero de iones puede proporcionar un recubrimiento uniforme y bien conductor para muestras no conductoras. Esto evita efectivamente la generación del efecto de carga, lo que hace que las imágenes del microscopio electrónico sean más claras y los detalles más ricos.

2. soporte de imagen de alta potencia: para muestras que requieren imagen de alta potencia, el salpicadero de iones puede proporcionar una capa metálica conductora delicada y uniforme. Esto ayuda a lograr una mayor duplicación de observaciones e imágenes y mejorar la precisión y fiabilidad de los experimentos.