Máquina de marcado de cinco ejes ultravioleta

NegociableActualización en02/16

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Descripción general

Máquina de marcado de cinco ejes ultravioleta

Detalles del producto

La máquina de marcado láser ultravioleta pertenece a la serie de productos de la máquina de marcado láser, pero se desarrolla con un láser ultravioleta de 355 nm. la máquina utiliza la tecnología de duplicación de frecuencia intracavitaria de tercer orden en comparación con el láser infrarrojo. el punto de enfoque ultravioleta 355 es muy pequeño, lo que puede reducir en gran medida la deformación mecánica del material y el impacto térmico del procesamiento. se utiliza principalmente para el marcado ultrafino y el grabado, especialmente para la marcado de alimentos, materiales de embalaje farmacéutico, microporos, División de alta velocidad de materiales de vidrio y Corte gráfico complejo de obleas de silicio.

Características:

1. la calidad del haz es buena y el punto de enfoque es pequeño, lo que puede lograr una marca súper fina;

2. además de la calidad del cobre, los materiales adecuados para el procesamiento son más amplios, compensando la falta de capacidad de procesamiento láser infrarrojo;

3. el área de influencia térmica es muy pequeña para evitar daños en los materiales procesados y la tasa de productos terminados es alta;

4. velocidad de marcado rápida, alta eficiencia y alta precisión;

5. el rendimiento de toda la máquina es estable, el tamaño es pequeño, el consumo de energía es bajo y puede funcionar durante mucho tiempo;

6. no se necesitan consumibles, y los costos de uso y mantenimiento son bajos;

7. alta tasa de conversión electroóptica, larga vida útil de los cristales no lineales y diseño modular conveniente para la instalación y el mantenimiento;

8. se puede seleccionar una mesa de trabajo automática bidimensional para lograr la marca continua de múltiples estaciones o la marca de gran formato.

Áreas de aplicación:

Se aplica a todo tipo de vidrio, TFT、 Marcado y tratamiento de superficie de pantallas lcd, pantallas de plasma, textiles, cerámica de láminas, láminas de silicio monocristalino, granos ic, zafiros, películas de polímeros y otros materiales.

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