Máquina de grabado de iones reactivos rie

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Descripción general

El CIF lanzó una máquina de grabado de iones de reacción rie, que utiliza el método de excitación inducida por iones de reacción rie para lograr el grabado de microestructura isotrópico en la superficie del material. Es especialmente adecuado para la investigación de grabado dieléctrico, grabado de silicio y grabado metálico en universidades, institutos de investigación científica, laboratorios empresariales de microelectrónica y semiconductores. Bajo costo de uso, alta relación calidad - precio, fácil mantenimiento, procesamiento rápido y eficiente. La máquina de grabado de iones de reacción rie es adecuada para todos los sustratos y estructuras geométricas complejas para el grabado de iones de reacción rie.

Detalles del producto

El CIF lanzó una máquina de grabado de iones de reacción rie, que utiliza el método de excitación inducida por iones de reacción rie para lograr el grabado de microestructura isotrópico en la superficie del material. Es especialmente adecuado para la investigación de grabado dieléctrico, grabado de silicio y grabado metálico en universidades, institutos de investigación científica, laboratorios empresariales de microelectrónica y semiconductores. Bajo costo de uso, alta relación calidad - precio, fácil mantenimiento, procesamiento rápido y eficiente.Máquina de grabado de iones reactivos rieAdecuado para todos los sustratos y estructuras geométricas complejas para el grabado de iones reactivos rie.

Específicamente, incluye:

◆ materiales dieléctrico (sio2, sinx, etc.)

◆ el pintoresco "hongkuang, Said xiaohongkuan, a student of xiaohonghan, had been said.

◆ materiales III - V (gaas, inp, gan, etc.)

◆ metales salpicados (au, pt, ti, ta, w, etc.)

◆ diamantes similares (dlc)

Áreas de aplicación:

Máquina de grabado de iones reactivos rieSe utiliza principalmente en la investigación y desarrollo y fabricación de dispositivos en chips microelectrónicos, células solares, biochips, pantallas, óptica, comunicaciones y otros campos.

Características del producto

◆Interfaz de operación interactiva en chino e inglés de pantalla táctil de color de 7 pulgadas, control automático y monitoreo del Estado de los parámetros del proceso, 20 programas de fórmula, datos del proceso se pueden almacenar y rastrear.

◆El ordenador de control industrial del PLC controla todo el proceso de limpieza, con dos modos de trabajo manual y automático.

◆El Cuerpo de la cabina de vacío y el sistema de tuberías de vacío completo adoptan 316 material de acero inoxidable, resistente a la corrosión y sin contaminación.

◆Utilizando un medidor de flujo digital anticorrosivo, Lograr un control preciso de la entrada de gas. Equipado con un sistema de transporte de gas de doble vía estándar, Multigas opcionalSistema de transporte de gas por carretera, Se puede introducir oxígeno, argón, Gases como nitrógeno, Tetrafluoruro de carbono, hidrógeno o mezcla.

◆Adoptar el método de entrada de aire poroso tipo ducha para cambiar la entrada de aire desigual de un solo agujeroProblema de uniformidad.

◆Filtración eficiente hepa, relleno de gas y barrido para evitar la contaminación secundaria.

◆Compatible con la funcionalidad humanaEl diseño de la interfaz de operación de inclinación de 60 grados es conveniente para la operación y amigable para la interfaz.

◆Adopta la cabina de vacío superior, el diseño de la tapa superior abierta y la bisagra inferior abierta.Forma de cerrar.

◆Tipo superiorDiseño de la muestra de extracción y liberación horizontal de 360 gradosSe ajusta a la funcionalidad humana y la operación es más conveniente.

◆Gran área de tratamiento efectiva, se puede procesar el diámetro máximoSilicio cristalino de 154mm.

◆Protección de seguridad, puertas abiertas, apagado automático de la fuente de alimentación, funcionamiento de la máquinaBien, deja de avisar.

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