Sistema de litografía láser nanométrica

Sistema de litografía láser nanométrica‍ es un sistema de litografía multifuncional de pequeño alcance especialmente diseñado para equipos de investigación científica y plataformas de procesamiento. según el rango de movimiento de la Plataforma piezoeléctrica, se divide en diferentes modelos como p100, p200, p500, p1000 y p1500. tiene las características de estructura compacta, operación conveniente, mantenimiento simple, alta resolución de procesamiento y soporte de múltiples materiales receptores. puede ser ampliamente adecuado para la fabricación de diversas microestructuras y dispositivos, exploración de procesos de materiales y producción a pequeña escala. Esta serie de productos también puede proporcionar diseño y fabricación personalizados de acuerdo con las necesidades especiales de los usuarios.

Nueva tecnología conceptual: la serie huaweina ldw - PSistema de litografía láser nanométricaA través de la interacción no lineal entre el láser y el material, se rompe con éxito la limitación del límite de difracción óptica y se logra una resolución de procesamiento a escala nanométrica, con un diámetro mínimo de agujero de hasta 50 nm.

Materiales receptores múltiples: la serie huaweina ldw - P es compatible con una variedad de materiales receptores, incluyendo películas metálicas, materiales inorgánicos de cambio de fase, fotorresistentes y así sucesivamente, a través de una modulación de potencia de alta precisión (≥ 1 ‰).

Fiabilidad y facilidad de uso: huaweina hwn - P tiene potentes funciones de software, admite una variedad de modos de grabado, como el grabado escalar y el grabado vectorial, para que los usuarios puedan elegir de acuerdo con diferentes escenarios de grabado. Además, la serie ldw - P también admite el análisis en línea después de la grabado de la muestra, lo que permite a los usuarios completar los pasos de diseño, grabado y análisis en una sola parada, lo que mejora en gran medida la eficiencia del trabajo.