Sistema de escritura directa láser nanométrico

Suzhou huaweina Nanotechnology co., Ltd.Fundada en 2011, la compañía innovadora de alta tecnología está compuesta por talentos de alto nivel repatriados y nacionales, y la compañía tiene una estación móvil postdoctoral.

Sistema de escritura directa láser nanométricoAdoptar un nuevo camino tecnológico para mejorar la resolución de procesamiento, romper las limitaciones del límite de difracción repentina de un solo golpe y lograr con éxito el procesamiento a escala nanométrica; Rompiendo la situación actual de que la escritura directa láser solo se puede utilizar en fotorresistentes orgánicos, se puede utilizar ampliamente en varios materiales receptores, lo que amplía en gran medida el alcance de aplicación de los equipos de escritura directa láser.

Características de la nueva generación de equipos de litografía de escritura directa láser

Equipos nacionales de escritura directa láser con derechos de propiedad intelectual básicos

Tiene capacidad de procesamiento más allá de los límites de difracción

Sistema de escritura directa láser nanométricoSe puede aplicar a una variedad de materiales receptores

La compañía puede proporcionar equipos personalizados y servicios de procesamiento de diversas muestras de microestructura de acuerdo con las necesidades de los clientes.

Algunas muestras procesadas se muestran en la siguiente imagen.