El analizador de gas de proceso láser in situ es un instrumento de análisis óptico de alto rendimiento basado en la tecnología de espectrometría de absorción láser de semiconductores tunables (tdlas), que adopta un diseño de inyección y se puede utilizar para el control de gas de proceso industrial; Su tiempo de respuesta es rápido, generalmente se calcula en segundos en la medición in situ, evitando el retraso de tiempo causado por la medición del estilo de recolección, y puede responder a la concentración de gas medida en línea y a tiempo.
Analizador de gas de proceso láser in situGastdl - 3100 es un instrumento de análisis óptico de alto rendimiento basado en la tecnología de espectrometría de absorción láser de semiconductores tunables (tdlas), que adopta un diseño de inyección y se puede utilizar para el control de gases en procesos industriales; Su tiempo de respuesta es rápido, generalmente se calcula en segundos en la medición in situ, evitando el retraso de tiempo causado por la medición del estilo de recolección, y puede responder a la concentración de gas medida en línea y a tiempo.
Analizador de gas de proceso láser in situCaracterísticas del producto:
1. utilizando la tecnología tdlas, el gas medido no se ve perturbado por el gas de fondo.
2. instalación in situ, sin necesidad de un sistema de preprocesamiento de muestreo
3. respuesta rápida (t90 ≤ 1s), que puede reaccionar a la concentración de gas en tiempo real
4. medición en línea en tiempo real, la concentración de gas no es fácil de distorsionar, la precisión de medición es alta
5. buena adaptabilidad en entornos de medición hostiles como Alta temperatura, alto polvo, alta humedad, alta corrosividad y alta velocidad de flujo.
6. diseño a prueba de explosiones y explosiones, alto factor de Seguridad
7. construcción simple, sin elementos móviles, sin elementos de pérdida, sin mantenimiento

Parámetros técnicos:
| Parámetros de rendimiento |
| Componentes del equipo de medición | O2, CO, CO2 y CH4* |
| Principio de medición | TDLAS |
| Alcance de la prueba |
O2: (0 a 5)% bol (100% personalizado) CO: (0 ~ 100) % de volumen CO2: (0 ~ 100)% de volumen CH4: (0 a 20)% de volumen |
| Precisión | ≤±1% F.S. |
| Repetibilidad | ≤ 1% |
| Deriva del rango | ≤±1% F.S. |
| resolución | 0.01%volumen |
| Tiempo de respuesta | El T90≤1s |
| Parámetros de trabajo |
| Nivel a prueba de explosiones | Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80 ℃ Db |
| Método de instalación | Instalación in situ |
| Temperatura ambiente | (-20~ +60)℃ |
| Fuente de alimentación de trabajo | 24V DC, 24W |
| Soplar gas | (0,3 a 0,8) MPa nitrógeno Industrial |
| Señal de interfaz |
| Comunicación | RS485 y RS232 |
| Modo de salida |
Salida de 2 rutas 4 - 20ma Salida de relé de 3 vías |
* nota: cada conjunto de analizadores mide la concentración de gas de un solo componente |