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1911, unidad 1, piso 19, edificio 8, patio 1, beiqing road, Distrito de changping, Beijing
Beijing Rongxing Guangheng Technology Co., Ltd
1911, unidad 1, piso 19, edificio 8, patio 1, beiqing road, Distrito de changping, Beijing
¡Ven! Sanfeng m plan apo50x nuv objetivo ultravioleta
¡Ven! Sanfeng m plan apo50x nuv objetivo ultravioleta
Objetivo de larga distancia de trabajo del microscopio objetivo infrarrojo

Corrección infinita
Para observación de campo abierto y procesamiento láser
Larga distancia de trabajo
Especificaciones de la lente acromática plana
Está diseñado para compensar desde la región ultravioleta cercana (longitud de onda 355 nm) hasta la región visible (zona de longitud de onda de observación general).
Nuv hr: especificaciones de alta resolución: resolución mejorada en más del 50% (en comparación con el estándar)
especificación
I. la luz visible a una larga distancia de trabajo de 95 mm del Plan M pasa por el objetivo:
Nombre |
La luz visible a una larga distancia de trabajo de 95 mm pasa por el objetivo |
Gafas oculares |
||||||
Apertura numérica |
Distancia de trabajo |
distancia focal |
resolución |
física |
Campo de visión físico |
cámara |
Profundidad del foco | |
N.A. |
El W.D. |
f |
R (μm) |
±Δp (μM) |
(WF10/24) |
CCD de 1/2' |
±Δ (μM) |
|
M Plan Apo HL 2X |
0.055 |
34.6 |
100 |
5 |
91 |
¿ 12 |
2,4 * 3,2 |
221 |
M Plan Apo HL 5X |
0.14 |
45 |
40 |
2 |
14 |
¿ 4,8 |
0,96 * 1,28 |
34.4 |
M Plan Apo L 10X |
0.28 |
34 |
20 |
1 |
3.5 |
¿ 2,4 |
0,48 * 0,64 |
8.6 |
M Plan Apo HL 20X |
0.29 |
31 |
10 |
1 |
3.3 |
¿ 1,2 |
0,24 * 0,32 |
5.8 |
M Plan Apo HL 50X |
0.42 |
20.5 |
4 |
0.7 |
1.6 |
¿ 0,48 |
0,10 * 0,13 |
2.3 |
M Plan Apo HL 100X |
0.55 |
12.5 |
2 |
0.61 |
0.9 |
|
|
1.82 |
II. la luz ultravioleta de larga distancia de trabajo de 95 mm del Plan M pasa por el objetivo (objetivo nuv):
nombre |
La luz ultravioleta de larga distancia de trabajo de 95 mm pasa por el objetivo (objetivo nuv) |
||||||||
NA |
WD |
Distancia focal f '(m) |
Resolución R (mu m) |
Profundidad focal ± △p (mu m) |
Campo de visión (mm) |
Campo de visión (mm) CC |
Tasa de transmisión |
Ondas estimuladas |
|
NUV50X |
0.43 |
14.81 |
4 |
0.64 |
1.49 |
Φ0.48 |
0.1x0.13 |
Más del 70% de 450 nm a 700nm70% 345 nm a 365 nm90% más |
Eliminación de color a 355 nm de longitud de onda |
NUV20X |
0.4 |
17.15 |
10 |
0.69 |
1.72 |
Φ1.2 |
0.24x0.32 |
Más del 70% de 450 nm a 700nm70% 345 nm a 365 nm90% más |
Eliminación de color a 355 nm de longitud de onda |
NUV50X |
0.7 |
3.5 |
4 |
0.39 |
0.56 |
Φ0.48 |
0.1x0.13 |
Más del 70% de 450 nm a 700nm70% 345 nm a 365 nm90% más |
Eliminación de color a 355 nm de longitud de onda |
3. la luz infrarroja de larga distancia de trabajo de 95 mm del Plan M pasa por el objetivo (objetivo nir):
nombre |
M plan 95 mm de larga distancia de trabajo luz infrarroja a través del objetivo (objetivo nir) |
|
||||||||
NA |
Distancia de trabajo (wd) |
Distancia focal f '(m) |
Resolución R (mu m) |
Profundidad focal |
Campo de visión (mm) Phi 24 contacto ocular |
Campo de visión (mm) |
Tasa de transmisión |
Nota |
||
20X |
0.45 |
17.4 |
10 |
0.61 |
1.36 |
Φ1.2 |
0.24x0.32 |
450nm ~ 700nm Más del 70%, 770nm ~ 790nm Más del 90% |
Eliminación de color a 780 nm de longitud de onda láser |
|
50X |
0.8 |
4.04 |
4 |
0.34 |
0.43 |
Φ0.48 |
0.1x0.13 |
450nm ~ 700nm Más del 70%, 770nm ~ 790nm Más del 90% |
Eliminación de color a 780 nm de longitud de onda láser |
|
1. los objetivos anteriores son sistemas ópticos infinitamente lejanos, objetivos de campo plano multicolor. Tubo intermedio f '= 200 mm.
2. la distancia de enfoque de las lentes anteriores es de 95 mm.
3. los hilos de conexión de las lentes anteriores son m26x0.706 (m26x1 / 36 '), pero se pueden personalizar de acuerdo con las necesidades del cliente o conectarse a través de un anillo de transferencia.
4. el logotipo "hl" de la lente anterior es una distancia de trabajo súper larga.
5. las lentes objetivo de larga distancia de trabajo anteriores están equipadas con un microscopio de visión estereoscópica de duplicación continua de un solo cilindro de video o un microscopio de detección industrial, que es ampliamente utilizado en diversas pruebas de fase, como la detección de partículas conductoras en la industria electrónica, micromoléculas en circuitos integrados ic, círculos de cristal, etc.