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Línea de producción de líquido de pulido químico - mecánico

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Descripción general

El equipo de preparación de líquido de pulido químico - mecánico NP - CMP se utiliza principalmente para la dispersión de CMP (líquido de pulido químico - mecánico) (incluyendo líquido de pulido basado en nanopartículas de óxido de silicio, líquido de pulido de nanopartículas de óxido de cerio, líquido de pulido químico - mecánico de carburo de silicio, líquido de pulido químico - mecánico de procesamiento de ultraprecisión del sistema de alúmina y el sistema de silicio sol) y la rotura, dispersión, Clasificación y modificación de varios materiales micro - nano, nuevos materiales energéticos, retardantes de llama inorgánicos, etc.

Detalles del producto

NP-CMPQuímicaLínea de producción de líquido de pulido mecánicoSe utiliza principalmente paraCMP (Líquido de pulido químico - mecánico) ()Incluye líquido de pulido basado en nanopartículas de óxido de silicio, líquido de pulido de nanopartículas de óxido de cerio, líquido de pulido químico - mecánico de carburo de silicio, sistema de alúmina y sistema de sol de silicio.DispersiónY varios materiales micro - nano, nuevos materiales energéticos, retardantes de llama inorgánicos y así sucesivamente triturados, dispersos, clasificados, modificados, etc.

QuímicaLa línea de producción de líquido de pulido mecánico (líquido de pulido cmp) es un equipo especial para mezclar, dispersar, moler y homogeneizar los componentes del líquido de pulido (como abrasivos, reactivos químicos, dispersantes, etc.), cuyo núcleo es garantizar que el sistema sea estable, sin aglomeración y con una composición uniforme.

Composición del equipo básico (según el proceso de preparación)

1. equipo de premezcla: se utiliza principalmente un tanque de agitación de alta velocidad *, que se utiliza para mezclar inicialmente reactivos químicos (como oxidantes, reguladores de ph) con disolventes (generalmente agua desionizada) para formar un sistema de fase líquida uniforme y prepararse para la incorporación posterior de abrasivos.

2. equipo de molienda descentralizado:

- dispersadora de alto corte: la dispersión de los agregados iniciales de los abrasivos (como sio o, al o) mediante la generación de una fuerte fuerza de cizallamiento con el estator a través de un rotor giratorio de alta velocidad es un equipo clave para garantizar la dispersión del líquido de pulido.

- molinos de arena / molinos de bolas: para abrasivos de alta dureza o fáciles de aglomerar, el tamaño de las partículas abrasivas se refina hasta el rango objetivo (generalmente nanométrico) a través de la colisión y fricción de medios de molienda (como bolas de zirconia) y se mejora aún más la uniformidad.

3. equipos de homogeneización y filtración:

Dispersador ultrasónico: ayuda a romper microcuerpos, especialmente para la dispersión final de abrasivos a escala nanométrica y mejora la estabilidad del líquido de pulido.

Filtro de precisión: utilice un filtro de nivel micron o submicron para filtrar las impurezas de partículas grandes o los agregados no dispersos en el sistema, evitando rayar piezas de trabajo como obleas al pulir.

4. equipos híbridos y de almacenamiento:

- mezcladora estática: lograr una mezcla eficiente durante el transporte de materiales para evitar la composición desigual local.

- * tanque de almacenamiento de líquido limpio *: con funciones de agitación, control de temperatura y protección contra el polvo, se utiliza para almacenar el líquido de pulido preparado para evitar la estratificación o contaminación.

Requisitos técnicos básicos

- alta limpieza: la pared interior del equipo debe ser lisa y resistente a la corrosión (por ejemplo, con acero inoxidable 316L o ptfe) para evitar la contaminación de iones metálicos o impurezas en el líquido de pulido.

- control preciso de la temperatura: algunos componentes químicos se liberan calor cuando se mezclan, y la temperatura debe controlarse mediante un sistema de refrigeración por agua o calefacción por chaqueta para evitar el deterioro de los componentes o la aglomeración de abrasivos.

- parámetros controlables: la velocidad de dispersión, el tiempo de molienda, la velocidad de agitación y otros parámetros deben ajustarse con precisión para satisfacer las necesidades de preparación de diferentes fórmulas de pulidos.


NP-CMPQuímicaLíquido de pulido mecánicoLínea de producciónLínea de producciónLa ruta del proceso probada ha logrado la producción en masa.

Control inteligente, monitoreo en tiempo real, almacenamiento completo de datos, visualización intuitiva de mapas y tablas

Velocidad ajustable, temperatura controlable, intensidad ultrasónica ajustable, cronometrable

Fácil de operar y fácil de limpiar














































NP (navier technology) es una empresa de alta tecnología que desarrolla, prepara, personaliza micro - nano, nueva energía y otros materiales para equipos de reacción, dispersión, toda la línea de producción y equipos de limpieza. El desarrollo de productos de la compañía sigue los principios de diseño de "inteligencia, modularidad, continuidad y miniaturización", se adhiere al concepto de "diseñar y fabricar los equipos más adecuados para satisfacer las condiciones de proceso de los usuarios" y "proporcionar sinceramente las mejores soluciones y servicios a los clientes", y la serie de equipos de síntesis de micromateriales, equipos de reacción y equipos de dispersión de alta eficiencia de micromateriales desarrollados son ampliamente aplicables a una variedad de micromateriales, como nanoni, ag, cu, fepo4, mno2, zro2, titania, mg (oh) 2, sio2, fosfato férrico, fosfato férrico de litio y ternaria, desde la investigación de laboratorio, la pequeña prueba, la amplificación piloto hasta la aplicación de producción industrial. Incluye: 1. equipos de reacción, equipos de dispersión, equipos de mezcla, equipos de molienda, equipos de limpieza, etc. utilizados en laboratorios estándar; 2. personalizar varios equipos de laboratorio; 3. equipos completos de laboratorio personalizados; 4. personalizar el equipo piloto; 5. equipos de producción en masa, etc.