Máquina de recubrimiento del sistema de depósito de capa Atómica

Máquina de recubrimiento del sistema de depósito de capa Atómica

Concepto de diseño

1. se series puede realizar procesos Thermal - ald, peald, con ala, etc.

2. la serie se tiene un alto grado de flexibilidad de transformación, pero su rendimiento y estabilidad no se sacrifican por ello.

3. el diseño del sistema de depósito de capa Atómica tiene un posicionamiento de producto conveniente, estable y de alta reproducibilidad.

Características del diseño

1. el sistema modular de introducción de precursores es fácil de mantener, reparar y ampliar hasta cuatro grupos de precursores, y puede utilizar precursores de baja presión de vapor; Desviación para evitar problemas de obstrucción de tuberías y polvo

2. diseño especial con baja tasa de fuga, que puede eliminar las fuentes de contaminación de dosis bajas que afectan los resultados del proceso

3. satisfacer las necesidades actuales de la mayoría de los procesos de materiales: Oxide o nitride de al, si, ti, zr, hf, etc. metal (tbd) 4. ancho de un solo sistema dentro de 54 cm, tamaño amigable con el laboratorio

5. el diseño de fuente de plasma especial (plasma remoto) puede aumentar el GPC en un 6% (en comparación con el icp)

6. el diseño especial de admisión mejora la uniformidad (u% inferior al 2%) para el problema de los residuos de ángulo muerto.

Máquina de recubrimiento del sistema de depósito de capa Atómica