Horno de recocido rápido al vacío annealsys en Francia

Origen: annealsys, francia;

Modelo: As - one100 / as - one150

El horno de recocido rápido vertical As - One es producido por la compañía francesa as y se divide en tres modelos: As - One 100, 150 y 200, que corresponden a productos de recocido rápido al vacío de 4, 6 y 8 pulgadas, respectivamente.

Aplicaciones:

- RTA de recocido térmico rápido;

- oxidación térmica rápida rto;

- difusión, recocido por contacto;

- recocido de semiconductores compuestos;

- nitrificación, siliconización;

Selenio, sulfuración;

Depósito de grafeno, crecimiento de nanotubos de carbono;

- cristalización, densidad;

Especificaciones técnicas:

especificación

El AS-ONE 100

El AS-ONE 150

Diámetro máximo de la base de la muestra

100 mm (4 pulgadas)

150 mm (6 pulgadas)

Tamaño de la cavidad

130 mm de diámetro x 25 mm

200 mm de diámetro x 25 mm

Número de luces infrarrojas / potencia máxima

12 / 30kw

18 / 34kw

Modo de enfriamiento de la luz infrarroja

ventilador

ventilador

Rango de temperatura estándar

Temperatura ambiente a 1.250 ° C

Temperatura ambiente a 1200 ° C

Gama de versiones seleccionadas de alta temperatura

Temperatura ambiente a 1500 ° C

Temperatura ambiente a 1300 ° C

Velocidad de calentamiento

0.1°C ~ 200°C/s

0.1°C ~ 150°C/s

Control de temperatura

Controlador EIP digital rápido

Controlador EIP digital rápido

Termómetro

Tipo K

Tipo K

Pirómetro

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

150°C ~ 1100°C

400°C ~ 1500°C

Inyección de gas

Debajo de la ventana de cuarzo

Debajo de la ventana de cuarzo

Camino de gas de limpieza

Configuración estándar

Configuración estándar

Modo / cantidad de ruta de gas de proceso

FC / 5 Road

FC / 5 Road

Sistema de adquisición de vacío

干泵 (10-2Torr)

Bomba molecular (10 - 6 torr)

干泵 (10-2Torr)

Bomba molecular (10 - 6 torr)

Tamaño / peso

510 mm x 1425 mm x 800 mm / 194 kg

510 mm x 1425 mm x 800 mm / 240 kg

Clientes de referencia:

Universidad de tsinghua, Universidad de pekín, Universidad de fudan, Universidad Tecnológica del Sur de china, 18 de Tianjin clp, 55 de Nanjing clp, Ge Shanghai R & D center, Universidad de Ciencia y tecnología del sur, Universidad de shenzhen, etc.

Horno de recocido rápido de muestras de gran tamaño

El horno de recocido rápido (rtp / rta) es un equipo de proceso comúnmente utilizado en materiales y dispositivos semiconductores. El horno de recocido rápido se puede utilizar en vacío, atmósfera inerte y diferentes entornos de gas de proceso.

Características del instrumento:

- tratamiento térmico rápido, recocido térmico rápido RTP / rta;

- se puede utilizar en ambientes de vacío o incluso de alto vacío;

- ampliamente utilizado en procesos de recocido rápido de células solares, como células de 156mm X 156mm, células de 300mm X 300mm, etc.;