El chorro de magnetrón de corriente continua es un equipo de laboratorio que utiliza un campo magnético para restringir los electrones y aumentar la densidad de plasma para depositar eficazmente películas finas, que es ampliamente utilizado en la investigación de materiales, recubrimiento de semiconductores y otros campos. El gas inerte se introduce en la Cámara de vacío y se aplica una alta tensión de corriente continua para formar un campo eléctrico, lo que hace que el gas se ioniza para producir plasma. Se establece un campo magnético ortogonal en la superficie del objetivo, que restringe la trayectoria del movimiento electrónico a través de la fuerza lorenz, prolonga su trayectoria y aumenta la probabilidad de colisión con el gas, mejorando así la densidad de plasma y la eficiencia del chorro. Los iones de alta energía bombardean la superficie del objetivo, haciendo que los átomos del objetivo se chorreen y depositen en el sustrato para formar una película densa. Este proceso requiere un control preciso del calor para evitar quemaduras en las muestras.
Ventajas: estructura simple, sistema de alimentación de corriente continua estable y bajo costo, mantenimiento simple del equipo. Para los objetivos de buenos conductores, como los metales, la tasa de salpicaduras es alta y puede satisfacer las necesidades de producción industrial a gran escala. Su proceso es bueno, los parámetros son fáciles de controlar, la ventana del proceso es amplia y la experiencia de producción en masa es Rica.
El equipo se utiliza para preparar películas finas como metales, semiconductores y óxidos, y es necesario mantener regularmente el sistema de vacío, la fuente de alimentación y el objetivo para garantizar la estabilidad del proceso y la calidad de la película.
Composición estructural
Sistema de vacío: compuesto por una bomba de vacío, una cavidad de vacío, etc., para proporcionar un ambiente de vacío y garantizar que el proceso de pulverización se lleve a cabo a baja presión.
Sistema de alimentación de corriente continua: proporciona un voltaje negativo constante para el objetivo cátodo, lo que provoca una descarga de brillo.
Sistema de suministro de gas: incluye tanques de almacenamiento de gas, medidores de flujo de masa, etc., para cargar una cantidad adecuada de gas de trabajo en la Cámara de vacío, como argón.
Sistema de instalación de material objetivo y sustrato: el material objetivo se instala en el cátodo, el sustrato se fija a la Mesa de muestra cerca del ánodo, que generalmente se puede calentar y girar para mejorar la uniformidad de la película.
Sistema de campo magnético: establecer un campo magnético ortogonal en la superficie del objetivo para restringir la trayectoria de movimiento de los electrones y aumentar la densidad de plasma.
Área de aplicación
Recubrimiento decorativo: se utiliza para preparar películas decorativas metálicas como oro, plata y cromo, como carcasas de relojes, marcos de gafas, accesorios de automóviles, etc.
Recubrimiento duro de herramientas: se pueden depositar películas de nitruro de metales duros como Tin y CRN para mejorar la resistencia al desgaste y la vida útil de herramientas y moldes.
Interconexión microelectrónica: se utiliza para preparar películas metálicas como aluminio y cobre como interconexión en circuitos integrados para realizar la transmisión de señales de circuito.
Electrodos traseros de células solares: se pueden preparar electrodos traseros metálicos como aluminio y plata para mejorar la eficiencia de conversión fotoeléctrica de las células solares.