Microscopio de examen de obleasEs un instrumento óptico utilizado para la detección de estructuras superficiales e internas de obleas semiconductoras, que puede ayudar a los técnicos a detectar rápidamente defectos en las obleas y garantizar la calidad del producto.
Funciones principales:
Detección de defectos: puede detectar rápidamente arañazos, contaminación, agujeros, grietas y otros defectos en la superficie de la obleas, así como anomalías en la estructura interna.
Medición del tamaño: a través del software de medición equipado, se puede medir con precisión el ancho de la línea, el tamaño gráfico, el espaciamiento, etc. en la obleas.
Análisis de imágenes: las imágenes recogidas se pueden procesar y analizar, como el ajuste de contraste, la detección de bordes, la clasificación de defectos, etc., proporcionando soporte de datos para el control de calidad y la mejora del proceso.
Microscopio de examen de obleasA través de la combinación de sistemas ópticos y tecnología de imágenes, se realiza una observación precisa de la microestructura superficial e interna de la obleas, cuyo principio central es:
Sistema de imágenes ópticas
Modo de iluminación: soporte para la iluminación transparente (para obleas transparentes / translúcidas) y reflectante (para obleas opacas), el tipo de fuente de luz cubre lámparas halógenos, lámparas led, etc., de las cuales las lámparas LED se convierten en la corriente principal debido a su larga vida útil y baja fiebre.
Objetivo y lente ocular: la lente objetivo es un componente óptico clave, que proporciona una variedad de amplitudes como 5x, 10x, 20x, 40x, etc., mientras que la lente ocular amplifica aún más la imagen.
Spoiler: a través de la regulación de la apertura numérica, la luz de la fuente de luz se centra en la superficie de la obleas, mejorando el brillo de la iluminación y mejorando la claridad de la observación.
Tecnología de observación multimodo
Observación de campo brillante / campo oscuro: la detección de campo brillante identifica defectos mayores como arañazos y partículas a través de cambios en la intensidad de la luz reflejada; La detección de campo oscuro utiliza luz dispersa para analizar defectos diminutos a nivel de sub100 nanómetros.
Interferencia diferencial (cid): mejora el contraste de la imagen a través de la diferencia de trayectoria óptica, mostrando claramente la estructura tridimensional de los defectos de cristal.
Observación de fluorescencia y polarización: se puede configurar un módulo de fluorescencia opcional para detectar las características de fotoluminiscencia, y el módulo de polarización analiza la orientación cristalina para satisfacer las necesidades del proceso de bandas.