La industria de semiconductores tiene requisitos estrictos de calidad del agua, y el agua ultrapura es el consumible central de producción, y su calidad afecta directamente la tasa de rendimiento de los chips. El agua ultrapura semiconductora debe cumplir con indicadores multidimensionales: la resistencia eléctrica debe alcanzar más de 18,2mohm.cm (25 ° c) para garantizar un contenido de iones extremadamente bajo; El toc (carbono orgánico total) se controla por debajo de 0,5 ppb para evitar afectar la precisión de la litografía; No más de 100 partículas por litro de más de 0,05 micras para evitar defectos fotolitográficos; El oxígeno disuelto es inferior a 1ppb, lo que inhibe la cría de bacterias y la formación de capas de óxido.
La aplicación de agua ultrapura recorre todo el proceso de producción de semiconductores: el enlace de preparación de obleas se utiliza para limpiar y eliminar impurezas para garantizar la cristalinidad de la superficie; Lavar la plantilla y la pasta en el proceso de litografía para garantizar la precisión del patrón; Los enlaces de grabado y pulido mecánico juegan un papel de enfriamiento y limpieza para mantener la consistencia del proceso; Limpiar las películas metálicas en la etapa de deposición química electrónica para garantizar la precisión de la deposición; También se puede utilizar para el enfriamiento de equipos y experimentos de laboratorio para garantizar que los datos sean confiables.
La fuente de agua ultrapura proviene del agua del grifo y necesita ser tratada en profundidad por varios procesos: la parte delantera reduce el toc de 1 - 3 ppm del agua del grifo a 10 - 30 ppb a través de procesos como acf, uf, ro y edi; Luego, a través del dispositivo de luz toc - uv, se reduce aún más a ≤ 0,5ppb, y finalmente se cumple el estándar. En términos de detección, las partículas se monitorean con un contador de partículas líquidas, TOC、 La resistencia eléctrica, el oxígeno disuelto, el pH y otros indicadores se detectan en tiempo real a través de monitores en línea (como instrumentos electroquímicos), y algunos escenarios requieren un sistema integrado para lograr el control dinámico de la calidad del agua.
El ciclo de monitoreo debe establecerse en combinación con las condiciones de trabajo y los cambios en la calidad del agua, tomar muestras y análisis periódicos para detectar problemas de calidad del agua a tiempo y evitar la disminución de la calidad del Chip o la pérdida de producción debido al exceso de carbono orgánico total, el exceso de oxígeno disuelto y el exceso de partículas. Con la reducción del tamaño y la mejora de la precisión de los componentes semiconductores, el monitoreo de agua ultrapura necesita actualizar continuamente la precisión y la tecnología de detección (como el monitoreo remoto) para satisfacer las necesidades cada vez más estrictas de calidad del agua de la industria.