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Qingdao Xinruide Environmental Protection Technology Co., Ltd
¿¿ cómo pueden los equipos de agua ultrapura semiconductores lograr una calidad de agua ultrapura?
Fecha:2025-08-08Leer:1
En el campo de la fabricación de semiconductores, el agua ultrapura es una materia prima clave, y su pureza afecta directamente el rendimiento y la tasa de rendimiento de los chips. Los equipos de agua ultrapura semiconductora garantizan que la calidad del agua cumpla con los estándares de pureza ultra alta a través de una serie de procesos complejos y medios técnicos. Los siguientes son sus principales métodos de implementación:
I. fase de preprocesamiento
El pretratamiento es el primer paso en la preparación de agua ultrapura, con el objetivo principal de eliminar sólidos suspendidos, partículas, microorganismos, materia orgánica y algunos iones del agua. El proceso de pretratamiento generalmente incluye los siguientes enlaces:
1. tanque de agua cruda y bomba de agua cruda: almacenar agua cruda y proporcionar una presión estable de suministro de agua.
2. filtro de arena de cuarzo: eliminar las grandes partículas suspendidas en el agua a través de la filtración física.
3. filtro de carbón activado: absorber impurezas como materia orgánica y cloro en el agua y reducir la demanda química de oxígeno (cod) del agua.
4. Suavizador de agua: utilice resina de intercambio de iones para eliminar iones duros como calcio y magnesio en el agua y evitar la escala de equipos posteriores.
5. filtro de seguridad: eliminar aún más las partículas pequeñas del agua y garantizar la calidad del agua que entra en el sistema de seguimiento.
II. fase principal de tratamiento
En la etapa principal de tratamiento, el equipo de agua ultrapura utiliza una variedad de tecnologías avanzadas de tratamiento de agua para purificar aún más la calidad del agua:
1. tecnología de ósmosis inversa (ro): separación de moléculas de agua de sales disueltas, compuestos orgánicos, microorganismos y otras impurezas a alta presión a través de membranas semipermeables, con una tasa de eliminación de más del 99%. Esta tecnología puede reducir eficazmente la conductividad eléctrica del agua y los sólidos solubles totales (tds).
2. tecnología de desionización eléctrica (edi): la tecnología EDI combina la resina de intercambio de iones y la tecnología de diálisis eléctrica, utilizando la acción de un campo eléctrico para migrar y adsorber iones en el agua en la resina, eliminando así aún más los iones en el agua. El sistema EDI puede aumentar la resistencia eléctrica del agua a más de 15 MWH · cm.
3. resina de intercambio de iones: después del edi, generalmente se utiliza resina de intercambio de iones para un tratamiento de desalación profunda para mejorar aún más la pureza de la calidad del agua. La resina de intercambio de iones es capaz de absorber trazas de iones en el agua, lo que hace que la resistencia eléctrica de la producción de agua alcance los 18 MWH · cm o incluso más.
III. fase de acabado
La fase de acabado es para garantizar que la calidad del agua cumpla con los estándares de pureza ultra alta necesarios para la producción de semiconductores, que generalmente incluyen los siguientes pasos:
1. cama mixta de pulido: la cama mixta de pulido es el último paso en la preparación de agua ultrapura, eliminando aún más las trazas de impurezas en el agua a través de resina de intercambio de iones de alta pureza, asegurando que la resistencia eléctrica de la producción de agua alcance los 18,2mohm · cm.
2. desinfección ultravioleta: la tecnología de desinfección ultravioleta se utiliza para matar bacterias y microorganismos en el agua y garantizar la bioseguridad de la calidad del agua.
3. eliminación de toc: eliminar el carbono orgánico en el agua a través de un dispositivo de lámpara toc - UV o un filtro de carbón activado para garantizar que el contenido total de carbono orgánico (toc) en la calidad del agua sea inferior a 1ppb.
4. tratamiento de desgasificación: en el proceso de producción de agua ultrapura semiconductora, la eliminación de oxígeno disuelto y dióxido de carbono es muy importante. Por lo general, se instala un dispositivo de desgasificación después del EDI o frente a la cama mixta pulida, utilizando un modo combinado de barrido de nitrógeno de alta pureza y vacío para reducir el oxígeno disuelto en el agua por debajo de 10 ppb, o incluso menos.
IV. monitoreo de la calidad del agua y control automatizado
Los equipos de agua ultrapura semiconductora suelen estar equipados con sistemas avanzados de monitoreo de la calidad del agua y sistemas de control automatizados. Estos sistemas pueden monitorear los parámetros de calidad del agua en tiempo real, como la resistencia eléctrica, el toc, el ph, etc., y ajustar automáticamente el Estado de funcionamiento del equipo de acuerdo con los resultados del monitoreo para garantizar la estabilidad y fiabilidad de la calidad del agua. El sistema de control automatizado también puede realizar el arranque y parada automáticos del equipo, la alarma de averías y el monitoreo remoto, mejorando la eficiencia operativa y el nivel de gestión del equipo.
A través de la sinergia de los procesos anteriores de varios niveles, el equipo de agua ultrapura de semiconductores puede eliminar eficazmente todo tipo de impurezas en el agua, garantizar que la calidad del agua cumpla con los estándares de pureza ultra alta y cumplir con los estrictos requisitos de calidad del agua de la producción de semiconductores. Esta calidad del agua de alta pureza es crucial para los procesos de limpieza, grabado y litografía en el proceso de fabricación de semiconductores, y puede mejorar efectivamente el rendimiento y la tasa de rendimiento del chip.