Equipo de litografía sin máscaraEs un instrumento de prueba de proceso que proyecta directamente patrones de circuitos a materiales fotosensibles a través de un sistema óptico de alta precisión, eliminando el enlace de producción de máscaras necesario para la litografía tradicional. El dispositivo se puede dividir en categorías ópticas y partículas cargadas, incluyendo escritura directa láser, escritura directa de haz de electrones y otros tipos técnicos. En la fabricación de semiconductores, sus ventajas obvias son mejorar la eficiencia de la litografía, reducir los costos de producción y acortar el ciclo de investigación y desarrollo, que es ampliamente utilizado en biochips, Sistemas microelectromecánicos y envases avanzados.
La fotolitografía sin máscara se basa en la tecnología de escaneo del modulación de luz espacial o el método de escritura directa del haz de partículas cargadas, que convierte el mapa digital directamente en un gráfico físico en el fotorresistente para lograr un prototipo rápido sin máscara. Sus indicadores técnicos básicos incluyen ancho mínimo de línea, conmutación automática de resolución y fotolitografía gris.
Área de aplicación
investigación y desarrollo de chips microfluídicos: adecuados para la investigación en microfluídicos, microelectrónica y otros campos.
litografía de chips de potencia: soporte para experimentos de múltiples dominios de circuitos integrados de nanotubos de carbono.
componentes ópticos 3d: la tecnología de litografía gris realiza el procesamiento estructural tridimensional.
Las funciones centrales del equipo de litografía sin máscara Nano UV - SMART de Magic Technology incluyen:
Mecanizado de alta precisión: utilizando la tecnología de microscópico digital (dmd), se logra una precisión de ancho de línea de 300nm, con un error de empalme mínimo y un borde estructural suave.
velocidad de escritura directa eficiente se puede procesar 300mm2 por minuto, lo que es adecuado para el modelado rápido y la producción en pequeños lotes.
- control totalmente automático: diseño integrado, fácil de operar, soporte de sustrato de 12 pulgadas, adecuado para microfluídicos, semiconductores y otros campos.
aplicaciones industriales: la combinación de algoritmos de autoinvestigación y hardware de alto rendimiento tiene una alta precisión de alineación y grabado para satisfacer las necesidades de producción a gran escala.