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Beijing Yingsitao Technology Co., Ltd
La selección del objetivo del salpicadero de iones está relacionada con la calidad del recubrimiento.
Fecha:2025-12-13Leer:2
Salpicadero de ionesLa deposición de películas atómicas se realiza bombardeando la superficie del objetivo con iones de alta energía. La selección del material objetivo determina directamente las propiedades físicas y químicas del recubrimiento, que deben tener en cuenta las características del material, los parámetros del proceso y las necesidades de aplicación.
El tipo de objetivo coincide con el rendimiento
Objetivos metálicos (como au, al, cr): adecuados para escenarios con altos requisitos de conductividad eléctrica, como envases electrónicos y películas reflectantes ópticas.
Objetivos de aleación (como nicr, tial): la dureza del recubrimiento (como la dureza del recubrimiento tialn > 25 gpa) o la resistencia a la oxidación se pueden optimizar mediante la regulación de la composición.
Dianas cerámicas (como sio¿ 2, zro¿ 2): para recubrimientos aislantes o resistentes al desgaste, pero hay que tener en cuenta que su fragilidad puede conducir a una disminución de la eficiencia del chorro.
Influencia de los parámetros del objetivo en la calidad del recubrimiento
Requisitos de pureza: los objetivos de alta pureza (≥ 99,99%) pueden reducir la introducción de impurezas, como en el campo de los semiconductores, que requieren que el contenido de oro de los objetivos de oro sea superior al 99999%.
Microestructura: el objetivo de estructura cristalina en forma de columna puede conducir fácilmente a la concentración de esfuerzo del recubrimiento, mientras que el objetivo de grano fino (tamaño de grano inferior a 1 μm) puede mejorar la adherencia.
Tasa de pulverización: la tasa de pulverización de diferentes materiales es significativamente diferente (por ejemplo, al > cu > ti), y la tasa de deposición equilibrada debe ajustarse a través de la potencia.
Escenarios de aplicación típicos
Biosensores: se seleccionan dianas de oro de alta pureza (au ≥ 99999%) para garantizar la conductividad eléctrica y la biocompatibilidad del recubrimiento.
Dispositivo óptico: preparación de película antirreflectante con material objetivo sio¿ 2, optimizando el índice de refracción ajustando la presión de pulverización (0,5 - 1 pa).
Recubrimiento resistente al desgaste: el objetivo de Tin Se pulveriza con sesgo de pulso, lo que puede formar un recubrimiento nanocristalino denso en la superficie de la herramienta.
Estrategia de selección de objetivos
Control de costos: priorizar la selección de materiales alternativos rentables (como la sustitución de AG por al para capas conductoras temporales).
Compatibilidad del proceso: al salpicar a alta temperatura, es necesario seleccionar objetivos resistentes al calor (como mo, w) para evitar el ablandamiento y la deformación de los objetivos.
Consideraciones ambientales: eliminar gradualmente los objetivos que contienen elementos nocivos como plomo y cadmio, cumpliendo con los estándares rohs.