Al introducir alternativamente dos o más gases precursores, tald produce una reacción química autolimitada en la superficie del sustrato y deposita la película capa por capa. Cada ciclo completo de deposición consta de cuatro pasos:
Se introduce el primer gas precursor: se produce una adsorción química con la superficie del sustrato, formando una adsorción de una sola capa.
Barrido de gas inerte: eliminar el exceso de precursores y subproductos y evitar reacciones en fase de gas.
Se introduce el segundo gas precursor: reacciona con el primer precursor adsorbido para generar una película de capa atómica única.
Vuelva a soplar el gas inerte: retire los precursores y subproductos no reaccionados y prepare el siguiente ciclo.
La deposición de capas termoatómicas forma una sola capa atómica mediante la introducción alterna de dos gases precursores, como el trimetilaluminio y el vapor de agua, en la superficie del sustrato mediante adsorción química y reacción superficial. Después de cada reacción, es necesario limpiar los precursores no reaccionados con gases nobles (como nitrógeno) para garantizar la autolimitación del proceso de deposición y evitar reacciones excesivas.
Limpieza de la Cámara de reacción y prevención y control de la contaminación
Inmediatamente después de cada uso, es necesario limpiar la Cámara de reacción, limpiar la pared interior con un paño sin polvo y un limpiador especial, centrándose en limpiar las partes propensas a la suciedad, como la boquilla y la plataforma del sustrato, para evitar que los residuos del precursor o la deposición de partículas afecten el rendimiento de la película. ¿ sí?
Cuando se desactiva durante mucho tiempo, es necesario vaciar la tubería y soplarla con gas inerte para evitar que los residuos corroan la tubería.
Enfoque de mantenimiento
Manejo de precursores: los precursores son fáciles de hidrolizar / oxidar, deben almacenarse herméticamente y reemplazarse regularmente (para evitar la disminución de la pureza);
Limpieza de la cavidad de reacción: después de la deposición, los precursores residuales son propensos a formar sedimentos, que deben limpiarse regularmente con plasma (como el plasma o85qi) o líquido de limpieza química;
Detección de fugas en la línea: asegúrese de que la línea de gas no tenga fugas y evite el bloqueo causado por la reacción Mixta del cuerpo delantero;
Mantenimiento del sistema de vacío: reemplazar regularmente el aceite de la bomba de vacío, limpiar el medidor de vacío y garantizar la estabilidad del vacío.