Sistema de procesamiento de plasma

Perfil del producto: VPS - rf05 es un pequeño procesador de plasma de vacío de escritorio, cuyo principio es aplicar un campo eléctrico al gas en estado de vacío (alrededor de 10 a 100 pa), que cambia de estado gaseoso a Estado de plasma bajo la energía proporcionada por el campo eléctrico (también conocido como el "cuarto estado" de la materia), que contiene una gran cantidad de partículas activas como electrones, iones, fotones y todo tipo de radicales libres, que son más diversas, más activas y más fáciles de reaccionar con la superficie del material contactado que las reacciones químicas habituales producen. El propósito de cambiar las propiedades superficiales del material se logra mediante el uso de estas partículas de alta energía y partículas activas para producir reacciones físicas o químicas con la superficie del material.

Sistema de procesamiento de plasmaCaracterísticas: la tecnología de circuito de alimentación de plasma importada y la estructura de descarga garantizan una distribución uniforme del plasma.

Sistema de procesamiento de plasmaAplicación: eliminar la materia orgánica de la superficie, mejorar la adherencia, mejorar la humectabilidad de la superficie, mejorar la biocompatibilidad, mejorar la energía de la superficie y mejorar la rugosidad de la superficie.

Parámetros del producto: