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Controlador de flujo de masa

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Descripción general

Los productos de la serie g300 utilizan el método de diferencia de presión laminar para medir el flujo, que tiene las características de alta precisión, alta resolución, alta repetibilidad y alta fiabilidad. El producto tiene una variedad de gases y mezclas incorporadas, utilizando una variedad de métodos de control, como analógicos y digitales.

Detalles del producto

El G300CControlador de flujo de masaCaracterísticas

·Control de alta precisión y alta resolución

·Baja potencia, potencia inferior a 2w

·Integración de 20 tipos de gas básico

·Se pueden personalizar 10 gases mixtos

·Función de ajuste automático de parámetros de control

·Control digital, modo de comunicación RS - 485 modbus rtu

·Amplio rango de flujo

·No se necesita precalentamiento

·No hay límite de dirección de instalación

·Con alta repetibilidad y alta fiabilidad

·Con válvula proporcional electromagnética, la vida útil es larga y la velocidad de respuesta es rápida.

·Con su propia compensación de temperatura, el rango de compensación es de 0 - 50 ℃.

·Control interno de circuito cerrado con alta estabilidad

·Tamaño del paquete pequeñoIntroducción al rango y la precisión

·Rango disponible:

61550最大 0-50 SLPM

61550Min 0 - 1sccm

61550Por favor, consulte la tabla de selección para el rango permanente.

·Relación de alcance: 1000: 1

·Precisión del rango completo: + 0,2%

·Precisión de lectura: + 0,8%

·Repetibilidad: + 0,2% FS

·Tiempo de respuesta: ¿ 100 ms (se pueden reducir los parámetros de control de la EIP ajustados)Tiempo de respuesta corto)

Introducción al diseño digitalSerie g300cControlador de flujo de masaTransmisión de alta precisión estándarSensores y circuitos digitales, los circuitos digitales pueden completar el Centro de medición y controlTodas las funciones básicas necesarias. La serie g300c adopta el estándarModo de comunicación RS - 485 modbus rtu. El bus RS - 485 es el más altoSe puede ampliar a 255 dispositivos para uso simultáneo.

Área de aplicación

·Cromatógrafo de gas y líquido

·Proceso de semiconductores

·Equipo de Monitoreo Ambiental

·Dispositivos de microreacción y dispositivos experimentales de preparación de materiales..CVD)

·Generador de gas

·Sistema de mezcla de gas