Termostato de proceso termoeléctrico Lauda - Noah pou: - 20 a 90 c de control de temperatura

El termostato de proceso termoeléctrico Lauda - Noah Pou se utiliza en la industria de semiconductores, proporcionando control de temperatura de - 20 a 90c

Cumplir con procesos exigentes rápidos y control de temperatura

El sistema de control de temperatura de uso en línea termoeléctrico (pou) proporciona un control de temperatura estable para el proceso de grabado por plasma. El sistema controla dinámicamente la temperatura de la pinza estática (esc) y se puede utilizar en cualquier proceso de grabado. La base del diseño del sistema de control de temperatura termoeléctrica Lauda - Noah Pou se basa en el principio de cambio de temperatura del componente paltie. Estos originales pueden lograr un control de temperatura rápido y preciso, cumpliendo con los requisitos de la producción actual de dispositivos cada vez más pequeños.

Funciones importantes

Sistemas sin compresores y refrigerantes de bajo consumo de energía

El sector industrial ocupa una pequeña superficie y no requiere espacio si se coloca debajo del suelo

Relleno de líquido conductor de calor extremadamente bajo

Anexo estándar

Tanque de llenado con bomba manual

Selección de accesorios

Módulo de comunicación que se puede controlar de forma remota (protocolo de comunicación RS - 485)

El sistema de control de temperatura Lauda - Noah Pou en línea (pou) puede ahorrar hasta un 90% de energía en comparación con el sistema de compresor. La opción de instalar debajo del suelo es opcional para que el sistema ocupe una pequeña superficie y ahorre espacio en la Sala limpia.