Hellma Alemania sintetiza cristales ópticos de fluoruro de calcio (caf¿ 2)

Hellma Alemania sintetiza cristales ópticos de fluoruro de calcio (caf¿ 2)

I. atributos físicos y químicos básicos

• Fórmula química: caf¿ 2 (fluoruro de calcio)

• Estructura cristalina: sistema de cristal cúbico, (111) superficie de escote

• densidad：3.18 g/cm³

• Punto de fusión：1418 °C

• Conductividad térmica：9.71 W/(m·K) @20 °C

• Coeficiente de expansión térmica (cte)：18.9×10 ⁻⁶ / K @20 °C

• Disolución (agua, 20 ° c): 0016 G / L (extremadamente difícil de disolver)

2. propiedades ópticas (núcleo)

• Banda de transmisión:130 nm (ultravioleta profunda) ~ 9 μm (infrarrojo medio)Cubre toda la banda vuv / DUV / visible / infrarroja.

• Transmisión interna (10 mm de espesor):

• UV（193/248 nm）：> 99,0%

• VIS: >92%

• IR (3 ~ 5 μm): > 90%

• índice de refracción.. nd@587.6 nm）:1.43384(bajo índice de refracción, pequeña distorsión del camino óptico)

• Número de abes (v d):95.23(muy baja dispersión, excelente acrobacia)

• Uniformidad del índice de refracción (@ 633 nm):≤ 0,5 ppm / 3 a 20 ppm (estándar)

• Bireflexión por esfuerzo (@ 633 nm):≤0.5 nm / cm / 1 ~ 50 nm / cm (estándar)

• índice de refracción no lineal (n Ο @ 1064 nm):: 1,9 × 10 cm / W (extremadamente bajo, estabilizado por láser de alta potencia)

• Coeficiente de temperatura del índice de refracción (dn / dt):

• @ 193 nm: -3,2 × 10 ⁻⁶ /K

• @ 248 nm: -6,9 × 10 ⁻⁶ /K

III. durabilidad láser (indicador clave del nivel de litografía)

• Longitud de onda aplicableLáser excéntrico: 157 nm, 193 nm, 248 nm

• Umbral de daño láser (ldt):> 10 J / CM m2 @ 193 nm (pulso de 10 ns)

• Estabilidad a largo plazo: en un entorno de litografía ultravioleta profundaBajo defecto, bajo EnvejecimientoAdecuado para procesos de 7 nm y menos

IV. dimensiones y especificaciones personalizadas

• Tamaño máximo:

• Monocristalino: diámetro ≤250 mm, espesor ≤ 150 mm

• Policristalino: diámetro ≤440 mm, espesor ≤ 150 mm

• Orientación cristalina: "111 > (predeterminado)," 100 > orientación aleatoria

• Calidad de la superficie: molienda, pulido (lambda / 10, lambda / 20), pulido de ultraprecisión

• Tolerancia: diámetro / longitud ± 0,1 mm, espesor ± 0,05 mm (se puede personalizar una mayor precisión)

V. grado de material

• UV 级 （193–400 nm）: uniformidad del índice de refracción ≤ 1 ppm, bireflexión ≤ 1 nm / cm, paraLente litográfica de 193 nm.

• Grado DUV (157 - 193 nm): uniformidad ultra alta (≤ 0,5 ppm), bireflexión extremadamente baja (≤ 0,5 NM / cm), adaptaciónLitografía de 157 nm.

• Clase vis (400 - 780 nm): uniformidad estándar (3 - 5 ppm), para imágenes de luz visible, microscopía.

• IR 级 (0,78-9 μm): optimización de la transmisión infrarroja paraVentanas infrarrojas, imágenes térmicas, espectrómetros.

VI. ventajas básicas

1. Transmisión ultra ancha：130 nm–9 μm， Un material cubre las necesidades de varias bandas.

2. Dispersión extremadamente baja: el número de Abe es de 95,23, la capacidad de eliminación de color es fuerte y la agudeza de la imagen es alta.

3. Alta resistencia láser: láser excéntrico 193 / 248 nm adaptado, estable y sin daños a largo plazo.

4. Alta uniformidad: la uniformidad del índice de refracción alcanza 0,5 ppm, y la consistencia del haz es EXCELENTE.

5. Preparación de gran calibre: 250 mm monocristalinos y 440 mm policristalinos para satisfacer las necesidades de los grandes sistemas ópticos.

7. aplicaciones típicas

• Semiconductores:Lente litográfica de 193 NM / 248 nm, sistema de iluminación.

• Láser: ventana láser de alta potencia, haz dividido, lente (157 - 1064 nm).

• Infrarrojo: ventana de cámara térmica infrarroja, elemento de espectrómetro, lente de telescopio astronómico.

• Investigación científica: ventana ambiental de radiación óptica y de alta energía ultravioleta al vacío (vuv).

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