Litografía de escritura directa

NegociableActualización en02/09

modelo

Naturaleza del fabricante: Productores

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Descripción general

La máquina de litografía de escritura directa de la serie CG - mlc1 es un producto de litografía inteligente. El dispositivo utiliza tecnología de litografía digital, sin máscara, y puede transferir directamente la información del diseño a un sustrato recubierto con fotorresistente. La serie CG - mlc1 tiene funciones flexibles, pequeño tamaño y alta relación calidad - precio, especialmente adaptadas a universidades, laboratorios e instituciones de Investigación. Sus principales productos de aplicación incluyen todo tipo de producción de microelectromes (como micrófono de microelectromes, sensores de presión, acelerómetros, giroscopios, sensores ultrasónicos, sensores piezoeléctricos), producción de plantillas de máscara, etc.

Detalles del producto

Litografía de escritura directaCaracterísticas del producto:

Sistema de litografía digital

Litografía de escritura directa sin máscara de dispositivos micro y Nano

Producción de fotomáscaras

Función de exposición estructural 3D

Función de alineación automática

Función de alineación de marcas personalizadas por el usuario

Función de exposición visual de punto fijo

Función de enfoque automático

Exposición de muestras irregulares

Dos modos de exposición rápidos y finos

Soporte para varios formatos de datos (gds II / Gerber / o DB +)

Función de alineación de la espalda (opcional)

Fuente de luz LD de 405 nm (opcional a 375 nm)

Litografía de escritura directaParámetros:

modelo	MLC Lite
modelo	Modo I	Modo II	Modo III
Tamaño característico mínimo	0,5 μm	1 μm	2 μm
Distancia mínima entre líneas anchas	0,8 μm	1,2 μm	2,5 μm
Uniformidad de CD	10%	10%	10%
Precisión de alineación de dos capas 5x5m m2	500nm	800 nm	1000nm
Precisión de alineación de dos capas 50x50m m2	800 nm	1000nm	1500 nm
Capacidad de producción	50 mm²/min	100 mm²/min	300 mm²/min
Tamaño mínimo del sustrato	5 mm x 5 mm
Espesor del sustrato	0,1 - 12 mm (opcional)
Superficie expuesta	150 mm x 150 mm
Exposición a escala de grises	128 órdenes opcionales
Fuente de luz expuesta	Láser, 405nm o 375nm

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