Evg lanza un sistema de alineación de máscaras de segunda generación para evg620hbl

En SemiconDurante la exposición, las empresas que proporcionan soluciones de procesamiento de obleas para semiconductores, Sistemas microelectromecánicos (microelectromecánicos) y aplicaciones de nanotecnología * EmpresasEVGGran lanzamiento para diodos emisores de luz de alto brillo (hb -led) Sistema de alineación de máscaras totalmente automático de segunda generación producido en masa.

Gen II lanza la primera generaciónEVGEl 620hbl, lanzado un año después, ofrece una plataforma de herramientas que se utiliza principalmente para satisfacer HB -ledLas necesidades específicas de los clientes y los requisitos continuos del mercado para reducir el costo total de la propiedad. Además, el evg620hbl gen II también ha optimizado la huella instrumental de las obleas: la producción de obleas por metro cuadrado de espacio de limpieza ha aumentado un 55% en comparación con los productos competidores.

  Hblgen II está diseñado para satisfacer un gran número deDiseñado para los requisitos específicos del cliente en el entorno de fabricación cuantitativa, incluyendo las siguientes características:

  ▲ 2El microscopio mejorado puede soportar la búsqueda automática de patrones de máscara, lo que reduce aún más el tiempo de configuración y reemplazo de la máscara. estas dos mejoras son muy críticas para apoyar la producción continua de equipos en entornos de fabricación en masa (hvm);

  ▲ 2El diseño actualizado del mapa de procesamiento robótico tiene la función de mapeo de obleas, lo que proporciona soporte para las necesidades de trazabilidad de obleas;

  ▲ 2La capacidad de alineación (alineación de líneas) se ha mejorado, utilizando marcas individualesledLa cuadrícula se posiciona, en lugar de requerir marcas de alineación que ocupen un espacio valioso en la obleas;

  ▲ 2Se reduce la ocupación del sistema, lo que optimiza el costo total de propiedad de la operación y aumenta el índice de obleas por huella.

estas principales ventajas de mejora funcional del evg620hbl gen II aportan una reducción del 20% de los costos unitarios de las obleas procesadas en comparación con los productos competidores y logran un alto rendimiento de obleas del sector zui, que puede producir hasta 165 obleas de seis pulgadas por hora (220 por hora en el primer modo de impresión).
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