Cseac 2026 directo en vivo: la matriz de productos de fuente electrónica e fuente de iones de tecnología instantánea llama la atención

Del 31 de agosto al 2 de septiembre de 2026, se celebró en taihu, wuxi, la 14ª Exposición de materiales y componentes básicos de equipos semiconductores (cseac 2026). El área de exposición de esta exposición superó los 70.000 metros cuadrados, reuniendo a más de 1.300 empresas nacionales y extranjeras, centrándose en los logros tecnológicos en el campo de equipos semiconductores, materiales y componentes básicos.

En el lugar de la exposición, donde se reúnen las estrellas, Shanghai instantánea Technology co., Ltd. (en adelante: instantánea technology) se ha convertido en uno de los focos de atención. esta empresa de tecnología dura centrada en los dispositivos de fuente central de haz de partículas apareció en cseac con una serie de productos de fuente electrónica y fuente de iones desarrollados de forma independiente, mostrando a la industria los avances independientes de China en el campo de los componentes básicos de los equipos de detección de volumen de semiconductores.

La tecnología instantánea cultiva profundamente la tecnología central de emisión de partículas microscópicas, rompe con muchos procesos de "cuello atascado" monopolizados desde hace mucho tiempo en el extranjero y, al mismo tiempo, tiene la capacidad de investigación y desarrollo independientes y producción en masa de todo el espectro de fuentes electrónicas, fuentes de iones y fuentes de rayos X de enfoque micro. La marca internacional de comparación de rendimiento central del producto puede lograr un reemplazo sin problemas de los principales equipos de microscopía electrónica y prueba importados, y sirve ampliamente a la investigación científica, pruebas de precisión de semiconductores, nanoprocesamiento, pruebas industriales no destructivas y otros campos.

Fuente electrónica (fuente de emisión del núcleo del microscopio electrónico):Control autónomo de todo el enlace，Estabilidad y durabilidad sobresalientes

Fuente electrónica (fuente de emisión del núcleo del microscopio electrónico)

Los productos de fuente electrónica de la compañía cubren modelos de gradiente completo, incluyendo tres categorías principales: alambre de tungsteno, hexaborato de lantano (lab) y lanzamiento de campo schottky; La vida útil continua y estable es ≥ 8000 h; tiene las características de deriva de manchas de haz extremadamente bajas, no hay desviación obvia en las imágenes de funcionamiento a largo plazo, y los indicadores de uniformidad del haz y dispersión de energía cumplen con los estándares de productos similares importados.

Todo el enlace de la fuente electrónica es autónomo y controlable, desde la purificación de materias primas monocristalinas, el procesamiento de precisión de la punta de la aguja hasta la autoinvestigación y producción de todo el proceso de embalaje del producto terminado, deshaciéndose de la dependencia tecnológica en el extranjero; La estabilidad y la durabilidad son sobresalientes, confiando en el proceso central del equipo de la Universidad jiaotong, la capacidad de resistencia a la contaminación es fuerte, el haz es puro y estable, la cantidad de deriva del trabajo continuo a largo plazo es extremadamente baja, adecuada para la producción industrial en masa y los experimentos de investigación científica a largo plazo; Fuerte capacidad de personalización, se puede adaptar parámetros y personalizar la estructura de acuerdo con equipos no estándar y necesidades experimentales especiales; El cuarto es la Alta compatibilidad, que se adapta plenamente a los principales equipos de microscopía electrónica importados de todo el sistema, como zeiss, hitachi, Japan Electronics y semerfei, para lograr una sustitución inmediata y sin problemas en la máquina y reducir considerablemente los costos de operación y mantenimiento de los equipos.

Las fuentes electrónicas son ampliamente utilizadas en la observación de micromorfología de alta resolución, el análisis de la composición de la microzona de materiales, la detección de defectos de obleas semiconductoras, la medición de tamaño clave CD - sem, la litografía de haz de electrones, la caracterización de nanomateriales y otros escenarios, adaptados a las necesidades de caracterización fina de institutos de investigación científica universitarios, empresas de materiales y fabricantes de semiconductores, y han logrado la verificación de máquinas de producción en masa de muchas instituciones de investigación científica nacionales y empresas de semiconductores Principales.

Fuente de iones (dispositivo central de micro - nanoprocesamiento fib):Alta precisión, baja proporción de impurezas y estabilidadManejar

Fuente de iones (dispositivo central de micro - nanoprocesamiento fib)

　

La fuente de iones de galio líquido (ga) desarrollada independientemente por instantánea Technology es el dispositivo central del sistema de haz de iones de enfoque (fib, FIB - sem). El principio es utilizar Galio líquido de alta pureza con bajo punto de fusión y baja presión de vapor como medio de emisión, transportarlo a la punta de la aguja monocristalina de tungsteno a través de un capilar de precisión, formar una estructura cónica Taylor estable bajo la acción de un campo eléctrico de alta tensión, inducir la ionización eficiente de metales líquidos y Continuar emitiendo haces de iones de galio de alto enfoque y alta pureza. Apoyándose en la tecnología central de infiltración estable de metales líquidos, moldeo de precisión de punta de aguja y regulación uniforme del campo eléctrico conquistada por el equipo, se realiza la emisión estable de haces de iones durante mucho tiempo, teniendo en cuenta las funciones dobles de imágenes microscópicas y grabado por pulverización física.

La fuente de iones tiene las características de haz controlable de amplio rango y puede adaptarse a los requisitos duales de imágenes de alta precisión y grabado de gran tamaño; La precisión de enfoque del haz de iones es alta, el punto del haz es pequeño, la proporción de impurezas es extremadamente baja, la estabilidad de emisión es excelente y no hay atenuación obvia del haz en el trabajo continuo; La punta de la aguja tiene una larga vida útil y una fuerte capacidad de resistencia al bombardeo. la estabilidad central y los parámetros de vida útil de los productos similares importados internacionalmente pueden satisfacer las necesidades de procesamiento de precisión a largo plazo.

La fuente de iones rompe los puntos dolorosos de la industria, como la infiltración desigual de metales líquidos, la deriva del haz y la falla de emisión, y el haz de iones tiene una alta pureza, buena concentración y excelente repetibilidad; El proceso de producción en masa independiente es maduro, la consistencia del producto es alta y la tasa de rendimiento es estable; Alta compatibilidad del equipo, se puede adaptar a los principales sistemas comerciales de doble haz FIB y FIB - sem, y admite la sustitución sin problemas de dispositivos importados; Al mismo tiempo, admite la personalización de parámetros no estándar, que puede optimizar los parámetros del haz para escenarios especiales de micro y Nano - procesamiento y resolver los problemas de la industria de mala adaptabilidad, dificultad de personalización y larga duración de los productos importados.

Se utiliza principalmente en escenarios de micro - nanoprocesamiento de precisión, como micro - reparación de chips semiconductores, grabado y depósito precisos de nanodispositivos, Corte de muestras ultrafinas de microscopía electrónica de transmisión, análisis de defectos micro - materiales, preparación de microestructuras, preparación de muestras de sonda atómica, etc. es el dispositivo clave central para la fabricación de nanómetros, procesos avanzados de semiconductores y Investigación Científica de materiales de vanguardia.

Apoyándose en la acumulación de investigación científica básica de la Universidad Jiaotong de shanghai, instantánea View Technology ha construido una matriz de productos de fuente de haz de partículas de la Trinidad de fuente de electrones, fuente de iones y fuente de rayos X. las tecnologías básicas de los tres tipos de productos son homólogas e intercambian sistemas de proceso, todos los cuales logran autoinvestigación positiva y producción en masa a gran escala. Todos los dispositivos de la compañía tienen las ventajas integrales de importación de comparación de rendimiento, fuerte compatibilidad, personalizabilidad, alta relación calidad - precio, entrega rápida y servicio post - venta perfecto, lo que permite de manera integral la localización y modernización de industrias estratégicas como semiconductores, nuevos materiales, equipos de alta gama e investigación científica de vanguardia.

Durante la exposición, varios espectadores profesionales de muchos campos, como la investigación científica, las pruebas de precisión de semiconductores, el nanoprocesamiento y las pruebas no destructivas industriales, visitaron el stand de tecnología instantánea para inspeccionar e intercambiar, y afirmaron altamente los avances logrados por la compañía. Con el aumento de pistas subdivididas como equipos nacionales de detección de volumen de semiconductores y equipos de litografía de haz de electrones, la demanda de fuentes electrónicas de alto rendimiento continuará liberándose. La aparición de instantánea Technology en cseac 2026 no solo muestra su acumulación tecnológica y capacidad de producción en masa en el campo de los dispositivos de fuente de haz de partículas centrales, sino que también envía una señal clara a la industria: en los eslabones clave de la cadena de la industria de semiconductores, las fuerzas nacionales están acelerando su ascenso.