1. prólogo:

La Litografía es un proceso clave en la fabricación de circuitos integrados (ic), ocupando el 40% del proceso de fabricación de chips.

El 50% del tiempo. En el proceso de litografía, no solo se necesita una fotolitografía, sino también un material clave, el fotorresistente. El fotorresistente es uno de los materiales más críticos de la industria de semiconductores. durante todo el proceso de fabricación de circuitos integrados, el proceso de Fotorresistencia representa alrededor del 35% del costo total de fabricación de chips y es el proceso central en la fabricación de semiconductores.

El fotorresistente es una mezcla compleja de composición, compuesta principalmente de disolventes orgánicos, resina polimérica, fotoácido (pag) y aditivos. Entre ellos, el fotoácido es el componente clave del fotorresistente y desempeña un papel decisivo en la sensibilidad y resolución del fotorresistente. La pureza y el control de impurezas de los fotoácidos tienen un impacto importante en el rendimiento del fotorresistente y de todo el producto semiconductor. La composición común de los fotoácidos es la parte catiónica del azufre trifenílico y la parte aniónica del polifluorosulfonato, mientras que la parte aniónica es básicamente libre de absorción ultravioleta, y el detector de niebla eléctrica (cad) no depende de la Actividad óptica del compuesto y puede usarse como detector ideal para controlar la calidad de los fotoácidos.

Esta aplicación toma como ejemplo el ácido sulfónico de triflublublublublublubutílico para explorar la viabilidad del control de calidad del fotoácido por cad.

El detector de pulverización eléctrica (cad) es un nuevo detector universal desarrollado en los últimos años. su detección no tiene nada que ver con la estructura molecular de la sustancia medida y la sustancia medida no necesita ser ionizada. siempre que la sustancia medida pertenezca a un compuesto semivolátil o no volátil, se puede detectar con cad. a la vez

CAD es un detector sensible a la calidad, el tamaño del valor de respuesta de la sustancia medida está determinado por la calidad absoluta de la muestra detectada, siempre y cuando la calidad absoluta de la muestra detectada sea la misma, el valor de respuesta medido tiende básicamente a ser el mismo, y puede obtener un límite de detección más bajo y una mayor sensibilidad.

El detector de niebla eléctrica (cad) es un importante logro científico y tecnológico logrado por el equipo de investigación y desarrollo de instrumentos yingmai después de años de investigación dedicada y experimentos repetidos. El detector utiliza tecnología avanzada de electricidad y atomización, que puede lograr una detección de alta sensibilidad y alta precisión de muestras trazas.

2. instrumentos y materiales:

Instrumento: espectrómetro de fase líquida agilent1200 + detector CAD (instrumento yingmai, modelo: detector a1)

Reactivos: agua pura (agua destilada de watsons), cianonitrilo (pureza cromatográfica), muestra de ácido fórmico (pureza analítica): sal de Matte de triflublublubrosulfonato de trifenilo.

3. métodos y resultados:

3.1 condiciones cromatográficas:

Columna cromatográfica: infinitilab poroshell 120 CE - C18 temperatura de la columna: 55 ° C velocidad de flujo: 0,4 ml / MIN cantidad de muestra: 5 μl

Fase móvil a: 0,2% solución acuosa de ácido fórmico fase móvil b: cianuro

Elución en condiciones de gradiente

Condiciones cad:

Modelo del instrumento: instrumento yingmai detector A1 temperatura del tubo de deriva: 40 ℃ flujo de aire atomizado: 3l / MIN corriente de polarización: 1 μA flujo de aire polarizado: 1l / min

3.2 preparación de muestras:

Diluyente: metanol, metanol - agua (1: 1) preparan el líquido madre de sal de Matte de triflublublublubensulfónico triphenil 2000 microgramos por ml, que se disuelve en solución de metanol puro. La solución madre se diluye paso a paso con una solución de metanol - agua (1: 1) y se prepara en concentraciones de 1, 2, 5, 10, respectivamente.

Soluciones de serie de 100 y 1000 microgramos / ML.

3.3 resultados experimentales:

3.3.1 aplicabilidad del método

Bajo las condiciones del método, el tiempo de retención de iones positivos y negativos es adecuado, y la separación, la forma del pico y la respuesta del pico son buenas.

3.3.2 sensibilidad del método

Muestra de 1 μg / ml, muestra de 5 μl; La respuesta del trifenilazufre es buena, con una relación señal - ruido de 1097,4 (método astm); El sulfonato de triflublublubtil responde bien y tiene una relación señal - ruido de 122,9 (método astm)

3.3.3 repetibilidad

Repetibilidad de 6 inyecciones consecutivas, el área de pico de azufre trifenilo rsd% es 0880; Área del pico radical del ácido sulfónico de trifluorobutil

El rsd% fue del 1222%, ambos inferiores al 2,0%, lo que indica una buena repetibilidad del método.

3.3.4 lineal

Concentración de 1 a 1000 microgramos / ml, el coeficiente de correlación de trifenilazufre R es 09995; El coeficiente de correlación R del sulfonato de trifluorobutilo es de 0999676, con una buena línea y un amplio rango lineal.

4,Conclusiones experimentales:

En este trabajo, los iones negativos en las muestras de ácido ligero fueron analizados por el método Clar - cad. El esquema tiene una alta sensibilidad, una buena separación y repetibilidad de iones y un amplio rango lineal, y se puede utilizar como método de evaluación de fotoácidos.

El método Clar - CAD es simple de operar, altamente especializado y de alta sensibilidad, y puede usarse como control de calidad y evaluación metodológica de agentes fotoácidos.