El recubrimiento por evaporación de haz de electrones es una técnica que utiliza un material de calentamiento de haz de electrones en un ambiente de vacío para evaporarlo y depositarlo en la superficie del sustrato para formar una película delgada. A continuación se detalla su proceso de uso:
I. preparativos preliminares
1. preparación de muestras y materiales: seleccionar materiales de evaporación adecuados, como metales, aleaciones o compuestos, según sea necesario, y colocarlos en un crisol refrigerado por agua. Preste atención a garantizar que el material sea de alta pureza y libre de contaminación.
2. inspección del equipo: comprobar si todos los componentes del equipo están intactos, incluyendo pistolas electrónicas, bombas de vacío, sistemas de refrigeración, etc. Confirme que la conexión de energía es normal y que la Cámara de vacío está limpia y libre de impurezas.
3. instalación del sustrato: fijar el sustrato a recubrir en el estante de muestras para garantizar su ubicación precisa y estable. Para un sustrato de forma compleja, es necesario ajustar el portamuestras para garantizar una buena cobertura.
II. bombeo al vacío
1. arranque la bomba de vacío: primero abra la bomba mecánica y reduzca inicialmente la presión del aire en la cavidad a un nivel más bajo (generalmente por debajo de 10 pa). Posteriormente, se activa la bomba molecular para reducir aún más el Estado de vacío máximo de la presión atmosférica (generalmente alcanzando alrededor de 5 × 10⁻ pa).
2. mantener el ambiente de vacío: durante todo el proceso de recubrimiento, es necesario monitorear continuamente la presión del aire en la cavidad para asegurarse de que está dentro del rango establecido para garantizar la estabilidad y controlabilidad del proceso de evaporación.
III. calentamiento y evaporación de haces de electrones
1. generación y enfoque de haces de electrones: encienda la fuente de alimentación de la pistola de electrones y emita haces de electrones. El radio de desviación del haz de electrones se controla ajustando la intensidad del campo magnético para que el haz de electrones caiga con precisión sobre el material de evaporación en el crisol.
2. evaporación del material: aumentar la corriente del filamento y la Potencia del haz de electrones para que el material de evaporación se derrita gradualmente y finalmente se evapore. En este proceso, es necesario prestar mucha atención al Estado de evaporación del material para garantizar que se caliente uniformemente y se evapore completamente.
3. monitoreo y control del espesor de la película: el sistema de control del espesor de la película se utiliza para monitorear el espesor de la película en tiempo real. Cuando se alcanza el espesor esperado, se cierra automáticamente o manualmente el deflector y se detiene la evaporación.
IV. tratamiento posterior
1. cierre el equipo: apague el interruptor de escaneo de haz de electrones, la corriente, el voltaje y la fuente de alimentación general del equipo en orden inverso. Asegúrese de que todos los parámetros vuelvan a cero antes de realizar el siguiente paso.
2. romper el vacío y tomar las piezas: introducir nitrógeno u otros gases nobles en la cavidad para restaurar la presión atmosférica a la presión atmosférica normal. Luego abra la puerta de la cavidad para extraer la muestra recubierta.
3. detección de muestras: realizar pruebas completas de calidad y rendimiento de las muestras extraídas para garantizar que cumplan con los requisitos del proceso y las normas de aplicación.
El proceso de uso del recubrimiento por evaporación de haz de electrones implica varios enlaces. Cada paso requiere un control estricto de las condiciones y parámetros para garantizar la calidad del resultado final. Con el desarrollo y la mejora de la tecnología, la tecnología desempeñará un papel importante en más campos.