Los siguientes son los detalles del uso del sistema de evaporación de doble inclinación:
I. configuración y control de los parámetros básicos
Mecanismo de ajuste colaborativo de doble inclinación
Fase de evaporación primaria: se utiliza un pequeño ángulo (5 ° - 20 °) para lograr la orientación inclinada de las moléculas de cristal líquido, y es necesario controlar con precisión el ángulo entre el haz de evaporación y el sustrato para garantizar que el eje largo de la molécula esté dispuesto a lo largo de la dirección de evaporación.
Fase de evaporación secundaria: después de que el sustrato gira 90 °, se forma una orientación plana en un ángulo más grande (20 ° - 45 °). Este proceso requiere ajustar simultáneamente la inclinación de los dos ejes para evitar la inclinación desigual causada por la desviación del azimut.
Algoritmo de compensación dinámica: para el recubrimiento a gran escala, se integra la retroalimentación del sensor de ángulo en tiempo real para corregir la deriva mecánica a través del control IDP para garantizar una precisión de ángulo de ± 0,5 °.
Control Conjunto de temperatura y vacío
Estrategia de calentamiento segmentado: la evaporación a baja velocidad (menosde 100 ° c) en la etapa inicial elimina el vapor de agua adsorbido, y la etapa principal de evaporación sube al punto de ebullición del material ± 5 ° c, y se enfría por debajo del punto de fusión después del final para evitar la aglomeración.
Gestión del gradiente de vacío: vacío de pretratamiento ≤ 5 × 10 Torr desgasificación, etapa de evaporación para mantener 10 ⁶ - 10 Torr para reducir la dispersión de colisión, combinada con el detector de fugas de espectrometría de masas de helio para monitorear la tasa de fuga en tiempo real.
II. estandarización de los procesos operativos
Carga y posicionamiento del sustrato
Se utiliza un sustrato fijo de adsorción magnética para calibrar la planitud con un interferómetro láser (error inferior a 2 micras). La base curvada debe coincidir con una pinza especial con un radio de curvatura ≥ 50 mm para evitar la deformación por esfuerzo.
Ejecución de evaporación en varias etapas
Pre - limpieza: el plasma bombardea la superficie del sustrato durante 5 minutos, y el ángulo de contacto se reduce a menos de 10 ° para aumentar la adherencia.
Evaporación de enlace de dos ejes: la primera capa de sio2 se evapora oblicuamente a una velocidad de 8 S / S (theta = 70 °), generando una inclinación previa de 5 ° – 35 °; Después de girar el sustrato, la segunda capa de electrodos metálicos se vaporizó a Theta iqi = 60 ° para construir una disposición molecular de caja tn.
Recocido in situ: iniciar el módulo de control de temperatura inmediatamente después del vapor y enfriarlo a temperatura ambiente a una velocidad de 5 ° C / MIN para liberar el estrés residual.
III. soluciones a problemas comunes
Optimización de la uniformidad
Supresión del efecto sombra: el uso de la fuente de vapor de curvatura gaussiana (k > 0) aumentó la tasa de deposición del borde en un 30%, compensando los defectos de espesor del borde delgado central causados es es por fuentes planas tradicionales.
Compensación de movimiento del planetario: la relación entre la velocidad de revolución y la velocidad de rotación se establece en 3: 1 para eliminar las rayas en forma de "cola de cometa".
Diagnóstico rápido de fallas
Alarma de rotura de película: suspenda inmediatamente el vapor y verifique la resistencia a la tierra de la Mesa del sustrato (debe ser inferior a 1omega normalmente) y el tiempo de respuesta de apertura y cierre del deflector (≤ 0,2s).
Caída repentina del vacío: detectar la compresión del anillo de sellado a su vez (dureza Shao recomendada de 70 ± 5) y el intervalo de cierre de la válvula de compuerta ( < 0,1 mm), descartando la posibilidad de no difusión atmosférica.
IV. normas de mantenimiento
Mantenimiento diario
Todos los días, sumerja un paño sin polvo en etanol para limpiar los residuos de la cavidad, centrándose en limpiar la acumulación de carbono 3 en la pieza de bloqueo.
Cambiar el aceite de la bomba cada semana y registrar el tiempo de recuperación del vacío (estándar ≤ 30 minutos para alcanzar 5 × 10⁻ torr).
Calibración periódica
Mantenimiento trimestral: calibrar el sensor de velocidad con un Oscilador de cristal de cuarzo y reemplazar la sonda cuando la desviación supere ± 5%.
Revisión anual: desmontar la Junta giratoria para limpiar el óxido y actualizar la capa de grasa de silicona térmica (espesor de 0,2 mm).
Lo anterior es el punto central del sistema de evaporación de doble inclinación. Solo siguiendo estrictamente estas reglas técnicas podemos aprovechar al máximo las ventajas de rendimiento del equipo y promover el progreso del proceso de fabricación de componentes ópticos.