Después de la década de 1960, el método CVD no solo se aplicó a materiales compuestos especiales, materiales de reactores atómicos, cuchillos, recubrimientos resistentes al calor y a la corrosión en la industria aeroespacial, sino también al campo de la industria de semiconductores. aunque es relativamente tarde, hoy en día, como tecnología de circuitos integrados a gran escala y tecnología de preparación de películas delgadas de materiales ferroeléctricos, aislantes y materiales magnéticos, * todos. La preparación de materiales de película delgada por CVD es un método de proceso más exitoso para aplicaciones de semiconductores y circuitos integrados a gran escala en los últimos años, principalmente para el Crecimiento epitaxial de silicio y materiales de arsénico y galio, materiales de película delgada metálica, capas aislantes superficiales, capas endurecidas, etc., para la deposición de algunas películas funcionales y ultraduras como óxidos, carburo, Corindón y diamond, así como para la síntesis de polvo, materiales a granel, fibras, etc., y se ha convertido en un método importante de síntesis de materiales en muchos campos industriales, como electrónica y maquinaria.

Esta mañana, nuestros ingenieros post - venta de Tianshi fueron a la escuela para ayudar a los profesores a instalar y depurar el sistema cvd.

La instalación y puesta en marcha fueron muy fluidas.

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