El rango de banda de la fuente de radiación ultravioleta de onda muy corta (euv) generalmente se refiere a una parte de la longitud de onda en el espectro ultravioleta extrema, que varía de 10 a 121 nanómetros, es decir, la radiación ultravioleta más larga que el espectro ultravioleta tradicional (ultravioleta - a, ultravioleta - b, ultravioleta - c).
División de bandas de los rayos ultravioleta de onda ultracorta:
Ultravioleta extrema (euv): su rango de longitud de onda se define generalmente como de 10 nm a 121 nm, ubicado en la parte más corta de la longitud de onda del espectro ultravioleta, por debajo de la banda C ultravioleta tradicional (200 nm a 280 nm) y más largo que la longitud de onda de los rayos X.
Relación con los rayos x: la radiación EUV tiene una longitud de onda más larga que los rayos x, pero es más corta que la banda C ultravioleta, por lo que a veces se considera una radiación de "transición" y se encuentra entre los rayos ultravioleta y los rayos X.
Características del euv:
Alta energía: la radiación EUV tiene una mayor energía y puede penetrar en muchos materiales, pero generalmente es absorbida rápidamente por el aire y otras sustancias, por lo que la radiación EUV natural es casi inexistente en la superficie de la tierra.
Campo de aplicación: debido a su longitud de onda corta y alta energía, la fuente de luz EUV es ampliamente utilizada en la tecnología de litografía en la fabricación moderna de semiconductores para fabricar circuitos integrados de tamaño muy pequeño (por ejemplo, procesos de 7 nm y 5 nm). Además, la EUV también se utiliza en astronomía, ciencia de materiales y ciertas aplicaciones médicas.
Tipo de fuente de luz euv:
Debido a que la longitud de onda del EUV es muy corta, las fuentes de luz tradicionales no pueden producir directamente tales longitudes de onda de luz ultravioleta. Las fuentes de luz EUV existentes utilizan principalmente las siguientes tecnologías:
Láser de electrones libres (fel): utiliza la radiación producida por los electrones después de acelerarse en un campo magnético para generar una longitud de onda euv.
Fuente de luz de plasma: emisión de radiación EUV por irradiación láser de alta energía de plasma producido por ciertas sustancias, como el Estaño.
Aplicaciones:
Fabricación de semiconductores: la tecnología EUV es actualmente una herramienta importante para la fabricación de chips semiconductores avanzados, especialmente en litografía de tamaño muy pequeño, como nodos de proceso de 10 nm, 7 nm o incluso menos.
Astronomía: la banda EUV es muy importante para estudiar objetos de alta temperatura (como el sol, las galaxias, etc.) y sus características de radiación.
Ciencia de los materiales: se utiliza para analizar la estructura superficial y la composición de los materiales, especialmente en el campo de la nanotecnología.
En general, los rayos ultravioleta de onda muy corta (euv) son una banda de radiación importante entre los rayos ultravioleta y los rayos x, tienen una alta energía y juegan un papel clave en varios campos de alta tecnología.