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PerkinElmer Enterprise Management (Shanghai) Co., Ltd
Perkin Elmer apareció en el segundo "curso de capacitación en tecnología de medición y detección de materiales y dispositivos semiconductores"
Fecha:2025-10-31Leer:0
Noticias
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Del 28 al 30 de octubre de 2025Instituto de silicato de Shanghai de la Academia China de CienciasPatrocinadoSegundo "curso de capacitación en tecnología de medición y detección de materiales y dispositivos semiconductores"Se celebró con éxito en shanghai. Como proveedor líder mundial de instrumentos y soluciones analíticas,Perkinelmer fue invitado a participar en la exposición y publicar un informe especial., exhibición completaEn el campo de la detección de materiales semiconductoresTecnología de vanguardia y capacidad de servicio de localización.
Antecedentes de la reunión
SemiconductoresLa tecnología industrial es intensiva y el proceso es complejo, involucrando cientos de procesos de precisión. A medida que el proceso continúa reduciéndose, la pureza del material, la precisión de fabricación y el control de calidad también están creciendo exponencialmente. Con el fin de fortalecer la construcción de personal altamente calificado y mejorar la comprensión y la capacidad de aplicación de la tecnología de análisis avanzada por parte de los investigadores científicos, este curso de capacitación se reunió.86 estudiantes profesionales de institutos de investigación científica, universidades, empresas e instituciones, en tornoMateriales fotoeléctricos, materiales semiconductores de tercera generación, sensores y microelectromes, pruebas de fiabilidad, análisis de fallas, detección de defectos y medición y otras direcciones calientesLlevar a cabo una capacitación sistemática.
Perkin Elmer hizo una gran aparición
Hemos instalado stands profesionales en el lugar, centrándose en mostrar soluciones de análisis y detección de todo el proceso para la industria de semiconductores, que cubren:
¿ análisis de impurezas de materiales de alta pureza (icp - ms)
¿ detección de oligoelementos (aas, ICP - oes)
¿ caracterización de la estructura y composición del material (uv, ir, tea)
¿ análisis y detección de contaminantes orgánicos y clorosilanos (gc / ms)
Atraer a muchos investigadores científicos a detenerse e intercambiar y explorar en profundidad los desafíos de aplicación práctica en precursores, obleas, envases y otros enlaces.
Orador principal: Zhu Min
¿¿ qué?Responsable de tecnología de aplicación de instrumentos de análisis Perkin Elmer
Contenido esencial del informe
El sistema de presentación de informes presentaAplicación de la tecnología ICP - MS en la detección de materiales a base de metales semiconductoresSe centra en analizar los desafíos clave que enfrenta el análisis, comoEfecto de matriz, interferencia de espectrometría de masas y estabilidad del análisis a largo plazo del instrumento, etc.Problemas, para hacer frente a estos desafíos, introdujo soluciones relevantes y métodos de optimización, como la tecnología de dilución de gas de matriz completa, la selección de condiciones de plasma, los parámetros generales de desinterferencia de la piscina y el excelente desempeño de la tecnología avanzada de interfaz de gran apertura de tres conos y desviación de iones de barra de cuatro polos en La tolerancia de la matriz y el efecto de carga espacial, y destacó los casos de aplicación y los datos experimentales de los precursores.
Finalmente, enfatizó,Innovación tecnológicaConControl de calidad de todo el procesoEs promover la dirección de los materiales semiconductores.Desarrollo de mayor pureza y coherenciaLa clave,Perkin Elmer se basará en una capacidad de servicio profesional integral y una sala limpia de semiconductores en zhangjiang, shanghai.，Continuar cultivando profundamente la vanguardia de la tecnología de análisisProporcionar un sólido apoyo técnico para el progreso de la industria y el gran número de clientes.
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