La máquina de desarrollo es el equipo central en el proceso de litografía, su papel central es transformar la "sombra latente" (invisible a simple vista) formada por el fotorresistente en la superficie de la obleas después de la exposición en un patrón de circuito fino claramente visible a través de la acción química, y es un eslabón clave para conectar la "exposición" y el "grabado" en la fabricación de chips semiconductores y la producción de componentes electrónicos de precisión.

El flujo de trabajo de la máquina de desarrollo se puede simplificar en tres pasos: primero, la obleas expuestas se transportan a la Cámara de desarrollo; Posteriormente, a través de la pulverización o inmersión, el desarrollador se aplica uniformemente a la superficie de la obleas, disolviendo selectivamente el fotorresistente no expuesto (pegamento positivo) o expuesto (pegamento negativo) para que la sombra latente aparezca; Finalmente, el desarrollador residual se elimina después de la limpieza, se seca y se solidifica para formar una base estable de gráficos de circuito.

Su estructura central incluye el sistema de transporte (para garantizar una transmisión estable y precisa de la obleas), el sistema de desarrollo (para controlar la temperatura del desarrollador, la concentración y el tiempo de acción), el sistema de limpieza y secado (para mejorar la estabilidad gráfica) y el sistema de control (para lograr un control automatizado y preciso). A medida que el proceso de fabricación de chips avanza hacia 3 nm o menos, las máquinas de desarrollo se están desarrollando hacia una mayor precisión, mayor eficiencia e inteligencia, proporcionando soporte central para la miniaturización y alta densidad de la industria de semiconductores.