Horno de calentamiento infrarrojo de alta temperaturaEs un equipo de tratamiento térmico que utiliza la tecnología de radiación infrarroja para calentar, que se introduce a continuación desde tres aspectos: características técnicas, escenarios de aplicación y análisis de ventajas:
Horno de calentamiento infrarrojo de alta temperaturaCaracterísticas técnicas:
Principio de calentamiento:
El horno de calentamiento infrarrojo funciona sobre la base del principio de absorción de la radiación infrarroja por objetos. Cuando el objeto está expuesto cerca de la fuente de radiación infrarroja, la energía de radiación infrarroja es absorbida por el objeto y convertida en energía térmica, lo que aumenta la temperatura interna del objeto.
El horno de calentamiento infrarrojo de alta temperatura está diseñado con lámparas infrarrojas de alta densidad de flujo de alta energía y espejos dorados, que pueden producir radiación infrarroja de alta intensidad y lograr un rápido calentamiento.
Control de temperatura:
El horno de calentamiento infrarrojo de alta temperatura puede calentar rápidamente la muestra a alta temperatura de 1500 ° C y está equipado con un controlador de temperatura de alta precisión para lograr un control de temperatura preciso.
Algunos equipos admiten el control de temperatura programático y pueden establecer múltiples curvas de calentamiento de acuerdo con las necesidades experimentales.
Ambiente de calentamiento:
Adecuado para todo tipo de ambientes, como el calentamiento y enfriamiento en ambientes de vacío, inercia, oxidación y reducción.
La pantalla trasera está equipada con un sistema de refrigeración por agua, que puede satisfacer las necesidades de prueba a largo plazo y evitar que la pantalla se deforme debido a las altas temperaturas.
escenarios de aplicación
Ciencia de los materiales:
Se utiliza en experimentos de calentamiento y análisis de materiales electrónicos, cerámicos, materiales metálicos y otros materiales.
En la industria aeronáutica, se utilizan pruebas de calentamiento de materiales de aleación de alta temperatura para garantizar su rendimiento y durabilidad en entornos de alta temperatura.
Fabricación de semiconductores:
Se utiliza para el tratamiento térmico rápido de calentamiento y deshielo de muestras de semiconductores.
Preparación de películas:
En atmósfera de oxidación, para la formación de cristales de óxido y la preparación de películas.
Instrumentos de análisis:
Se puede conectar a dispositivos de calentamiento de muestras bajo rayos X o radiación ultravioleta, como analizadores de gas de desorción calentados, xps, xrd, pld, etc.
Análisis de ventajas
Calentamiento rápido:
La tasa de calentamiento supera los 1000 ° C / min, y algunos equipos incluso pueden alcanzar los 150 ° C / s, lo que acorta en gran medida el ciclo experimental.
Control de temperatura de alta precisión:
Con un controlador de temperatura especial, la temperatura final se puede controlar con alta precisión para garantizar la precisión y repetibilidad de los resultados experimentales.
Observación visual:
Está equipado con una ventana resistente a la temperatura para facilitar la observación de los cambios de muestra y puede integrar un sistema óptico para la adquisición de imágenes.
Calefacción limpia:
No es necesario entrar en contacto con la muestra durante el proceso de calentamiento, lo que evita la contaminación y la introducción de impurezas, y garantiza la pureza de la muestra.
Personalización flexible:
Se pueden personalizar diferentes potencias, tamaños de zonas de temperatura constante y rangos de temperatura de acuerdo con las necesidades para satisfacer diferentes necesidades experimentales.