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El alto rendimiento de los filtros negativos no puede separarse de un buen control del proceso.
Fecha:2025-12-16Leer:1
  Filtro negativo- - un dispositivo de película multicapa que "deja ir la luz roja y deja que la luz azul se quede" - parece ser solo una placa de vidrio de unos micras de espesor, pero determina la calidad de imagen del radar láser, el endoscopio médico y la iluminación escénica. Su rendimiento ha aumentado del 70% al 95%, la clave no está en las máquinas de recubrimiento más caras, sino en el control del proceso de "calcular el error de cada capa por adelantado". A continuación, hablemos de las cuatro leyes de hierro detrás de su alto rendimiento.
I. la "limpieza" de la base no está a la altura, y la parte trasera está completamente en blanco.
El vidrio b270 después de la apertura se limpió primero con RCA - 1 durante 15 minutos (nh ₄ oh: h͂ o͂ oⅤ h: oⅤ o = 1: 1: 5, 75 ° c) para reducir los residuos orgánicos a menos de 0,3 nm; después de 10 minutos de bombardeo de plasma, la superficie se puede aumentar a 72 mnn · m 1, de modo que la adherencia de la primera capa de Ta o se menciona en 5,8 n desde 2,5 n, y luego se hornea a 200 ° C sin piel.
En segundo lugar, la "velocidad estable" del haz de iones es más importante que la "alta velocidad".
La máquina de recubrimiento utiliza una fuente de iones de radiofrecuencia de 6 cm, y el circuito cerrado de la EIP controla la placa de cristal de 2 pulgadas, presionando la fluctuación de la velocidad de depósito a ± 0,2%. En el caso de la placa de corte de interferencia de 532 nm, 21 capas de película, con un espesor total de 3,8 micras, siempre y cuando la velocidad se desvíe un 1%, la longitud de onda central se desviará a 2 nm, y la tasa directa caerá inmediatamente un 10%. Cuando la velocidad se estabiliza, el golpe de longitud de onda se reduce de ± 3 nm a ± 1 nm, y la tasa calificada aumenta en un 15%.
3. monitoreo de valor extremo en tiempo real "cero retraso" para compensar el error
Durante el proceso de deposición asistida por haz de iones (iad), el espectrómetro a nivel de chip recoge el valor extremo de transmisión cada 0,5 s, calcula el índice de refracción real de la capa actual n ± 0001 en el algoritmo 1 s y corrige la Potencia de la pistola de electrones en sentido inverso. La séptima capa encontró que n era un 0,8% más bajo, y el sistema inmediatamente compensó el espesor de ta₅ o ₅ en 1,2 nm y devolvió la longitud de onda al valor de diseño. En comparación con el "reexamen" tradicional, la tasa de retrabajo de una sola pieza se ha reducido del 8% a menos del 1%.
IV. la estructura "sándwich" de equilibrio de estrés es resistente a las grietas
Las láminas láser de alta potencia requieren un umbral de daño de 60 J · cm⁻ 2, y el estrés de la película debe estar cerca de cero. El ingeniero alternan ta o (+ 180 mpa) con sio 2 (– 120 mpa) en una relación de espesor de 2: 3 y añade una capa de amortiguación de baja tensión de MGF 20 nm en la capa exterior, con una tensión general reducida de + 350 MPa a + 30 MPA y un choque térmico y caliente de 24 H (– 40 ° c) ↔ Después de 85 ℃, no hay grietas, y la tasa de aprobación de la prueba ambiental aumentó del 85% al 98%.
Se puede ver que el alto rendimiento no es "chapado rápido", sino "calculado con precisión y controlado de manera estable", eliminando el error de cada Nanómetro antes de que la luz entre en el vidrio.