En el proceso de fabricación de películas, ciertos compuestos orgánicos metálicos..MOC), la presión de vapor de precursores como los hidruros y el amoníaco es mucho menor que la presión atmosférica estándar..760 tokens), es difícil evaporarse a temperatura ambiente. Estos precursores deben ser transportados a la deposición química de vapor(CVD)En el reactor, el método tradicional es usar disolventes/.Transporte químico y líquido de solutos. Algunos precursores sólidos tienen limitaciones de solubilidad, lo que afecta el flujo máximo de masa transportado a la cavidad del proceso.

Utilizamos tecnología avanzada de medición y control de presión para controlar directamente el transporte de vapor de precursores sólidos sin usar disolventes, logrando así un transporte preciso y repetible y haciendo que la preparación de materiales de película sea más eficiente.

En respuesta a la demanda de rangos de flujo en diferentes campos, nuestro controlador de baja presión de vapor tiene un potenteCPUSe puede lograr un control de flujo inteligente de amplio alcance, con un rango de control completo.10% a 100%.

Este controlador de baja presión de vapor se puede configurar en30℃~200℃Mantener una medición y control estables dentro del rango de temperatura de funcionamiento, adecuado para entornos hostiles. adoptarModbusAcuerdo..RS485 / 232), fácil acceso a computadoras u otros dispositivos, comunicación de datos y control remoto.

Los procesos de producción de películas finas son ampliamente utilizados en diversas industrias, como la fabricación de circuitos integrados de semiconductores, células solares de película delgada fotovoltaica, investigación y desarrollo de nuevos materiales, biosensores de dispositivos médicos y muchas otras industrias, a través de procesos clave de película delgada, permiten a diversas industrias producir materiales de película delgada de alta calidad.

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